| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·硬质薄膜材料的发展与制备 | 第7-9页 |
| ·硬质薄膜材料的发展 | 第7页 |
| ·硬质薄膜材料的制备 | 第7-9页 |
| ·氮化钛薄膜的性质与结构 | 第9-12页 |
| ·氮化钛薄膜的性质与结构 | 第9-10页 |
| ·制备方法对氮化钛薄膜结构和性能的影响 | 第10-11页 |
| ·工艺参数对氮化钛薄膜性能的影响 | 第11-12页 |
| ·氮化钛薄膜的应用 | 第12页 |
| ·氮化钛薄膜的合金化 | 第12页 |
| ·磁控溅射技术的发展及原理 | 第12-13页 |
| ·本课题的研究意义和内容 | 第13-15页 |
| ·本课题的研究意义 | 第13-14页 |
| ·本课题的研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 试验原理与步骤 | 第15-21页 |
| ·试验研究的步骤 | 第15页 |
| ·试验仪器 | 第15-16页 |
| ·试验原料 | 第16-17页 |
| ·氮化钛薄膜沉积原理 | 第17-18页 |
| ·气体辉光放电 | 第17-18页 |
| ·薄膜沉积原理及工艺 | 第18页 |
| ·薄膜微观表征及使用仪器 | 第18-19页 |
| ·薄膜性能研究 | 第19-21页 |
| ·显微硬度 | 第19页 |
| ·膜厚测量 | 第19页 |
| ·堆积因子测量 | 第19-21页 |
| 第三章 氮化钛薄膜表面形貌和微观组织的分析与研究 | 第21-45页 |
| ·基准沉积工艺参数 | 第21-23页 |
| ·基准工艺参数沉积氮化钛薄膜的基片选择及XRD分析 | 第21-22页 |
| ·基准工艺参数沉积氮化钛薄膜的能谱分析 | 第22-23页 |
| ·沉积时间对所制备氮化钛薄膜的影响 | 第23-27页 |
| ·氮化钛薄膜XRD分析 | 第23-24页 |
| ·氮化钛薄膜SEM分析 | 第24-26页 |
| ·氮化钛薄膜能谱分析 | 第26-27页 |
| ·工作总压对所制备氮化钛薄膜的影响 | 第27-30页 |
| ·氮化钛薄膜XRD分析 | 第28-29页 |
| ·氮化钛薄膜SEM分析 | 第29-30页 |
| ·氮气分压对所制备氮化钛薄膜的影响 | 第30-35页 |
| ·氮化钛薄膜XRD分析 | 第30-32页 |
| ·氮化钛薄膜SEM分析 | 第32-34页 |
| ·氮化钛薄膜能谱分析 | 第34-35页 |
| ·基底温度对所制备氮化钛薄膜的影响 | 第35-38页 |
| ·氮化钛薄膜XRD分析 | 第35-36页 |
| ·氮化钛薄膜SEM分析 | 第36-37页 |
| ·氮化钛薄膜能谱分析 | 第37-38页 |
| ·衬底偏压对所制备氮化钛薄膜的影响 | 第38-43页 |
| ·氮化钛薄膜XRD分析 | 第38-39页 |
| ·氮化钛薄膜SEM分析 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 氮化钛薄膜的显微硬度和堆积因子 | 第45-50页 |
| ·工艺参数对显微硬度的影响 | 第45-48页 |
| ·工作总压对氮化钛薄膜硬度的影响 | 第45-46页 |
| ·基底温度对氮化钛薄膜硬度的影响 | 第46-47页 |
| ·衬底偏压对氮化钛薄膜硬度的影响 | 第47-48页 |
| ·工艺参数对堆积因子的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 氮化钛薄膜抗双氧水及抗高温剥落的研究 | 第50-53页 |
| ·试验样品及方法 | 第50页 |
| ·试验结果 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第六章 结论 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |