| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·固体润滑技术及超固体润滑技术研究概况 | 第9-10页 |
| ·固体润滑薄膜的润滑机理 | 第10-11页 |
| ·MoS_2固体润滑薄膜的特性与研究进展简介 | 第11-18页 |
| ·MoS_2的结构和特性 | 第11-14页 |
| ·MoS_2固体润滑薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·MoS_2固体润滑的应用 | 第18-20页 |
| ·复合膜技术和膜的后处理技术的应用 | 第20-24页 |
| ·复合膜技术的作用 | 第20-23页 |
| ·多层膜技术 | 第23页 |
| ·中间层 | 第23页 |
| ·膜的后处理技术 | 第23-24页 |
| ·本文的实验研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-42页 |
| ·微波ECR射频磁控溅射镀膜 | 第25-38页 |
| ·磁控溅射原理 | 第25-27页 |
| ·微波ECR等离子源的原理和特点 | 第27-28页 |
| ·实验设备 | 第28-31页 |
| ·溅射靶材的制备 | 第31-36页 |
| ·基片处理 | 第36-37页 |
| ·工艺流程 | 第37-38页 |
| ·薄膜成分分析和表面形貌观测 | 第38页 |
| ·EDS分析 | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第38页 |
| ·薄膜结构分析 | 第38页 |
| ·薄膜摩擦学性能分析 | 第38-40页 |
| ·薄膜摩擦系数分析 | 第38-39页 |
| ·薄膜与基片结合力分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的热处理 | 第40-41页 |
| ·薄膜的浸泡实验 | 第41-42页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第42-57页 |
| ·薄膜的制备工艺研究 | 第42-44页 |
| ·沉积MoS_2/Ni复合膜的工艺参数 | 第42-44页 |
| ·沉积TiN和MoS_2/Ni的复合双层膜参数 | 第44页 |
| ·薄膜成分分析 | 第44-46页 |
| ·EDS分析 | 第44-45页 |
| ·XRD分析 | 第45-46页 |
| ·薄膜与基片结合力分析 | 第46-47页 |
| ·薄膜摩擦系数分析 | 第47-50页 |
| ·薄膜在变载荷下摩擦系数分析 | 第48-49页 |
| ·薄膜在变转速下摩擦系数分析 | 第49-50页 |
| ·纯MoS_2膜和MoS_2/Ni复合膜的划痕分析 | 第50-52页 |
| ·纯MoS_2膜和MoS_2/Ni复合膜的浸泡实验结果分析 | 第52-53页 |
| ·热处理对薄膜的影响 | 第53-54页 |
| ·在软基体和硬基体上的摩擦性能分析 | 第54-55页 |
| ·使用中间层后再沉积MoS_2/Ni复合膜的摩擦性能分析 | 第55-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 在读学位期间发表的论文 | 第64页 |
