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低发射率硫化物半导体颜料的制备及机理研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-12页
第一章 绪论第12-32页
   ·红外隐身材料概述第12-15页
     ·红外隐身材料的研究进展第12-14页
     ·红外隐身针对的主要波段第14页
     ·中、远红外隐身涂层原理第14-15页
   ·红外辐射机理第15-18页
   ·颜料发射率研究第18-30页
     ·发射率的定义和分类第18页
     ·颜料发射率一般规律第18-24页
     ·发射率影响因素第24-30页
   ·本文的主要研究内容第30-32页
第二章 基于正交实验的硫化物颜料的制备及红外发射率研究第32-47页
   ·引言第32页
   ·正交实验第32-34页
   ·粉体制备与测试第34-35页
     ·原料及仪器第34-35页
     ·制备过程第35页
     ·测试与表征第35页
   ·结果与讨论第35-46页
     ·热处理温度对8~14μm 波段红外发射率的影响第35-39页
     ·CdS/ZnS 配比对8~14μm 波段红外发射率的影响第39-42页
     ·样品红外发射率与波长的关系第42-46页
   ·小结第46-47页
第三章 半导体硫化物颜料的优化制备及红外发射率比较研究第47-64页
   ·引言第47页
   ·实验第47-49页
     ·原料及仪器第47-48页
     ·制备过程第48页
     ·测试与表征第48-49页
   ·结果与讨论第49-56页
     ·X 射线衍射分析(XRD)第49-50页
     ·粉体的扫描电镜分析(SEM)第50-51页
     ·粉体的透射电镜分析(TEM)第51页
     ·红外吸收光谱分析(IR)第51-53页
     ·红外发射率分析第53-56页
   ·两种固相法的比较分析第56-57页
   ·固溶体与单一化合物比较分析第57-63页
     ·粉体的扫描电镜分析(SEM)第58-59页
     ·红外吸收光谱分析(IR)第59-60页
     ·红外发射率分析第60页
     ·粉体的荧光光谱分析(PL)第60-63页
   ·小结第63-64页
第四章 导电性能对红外发射率的影响第64-70页
   ·引言第64-65页
   ·不同热处理温度下样品的电导性能与红外发射率分析第65-67页
     ·样品的制备与测试第65页
     ·样品的导电性能分析第65-66页
     ·样品的红外发射率分析第66-67页
   ·不同掺杂浓度样品的电导性能与红外发射率分析第67-70页
     ·样品的制备与测试第67-68页
     ·样品的导电性能分析第68-69页
     ·样品的红外发射率分析第69-70页
第五章 总结与展望第70-73页
   ·本文工作总结及主要结论第70-71页
   ·工作展望第71-73页
参考文献第73-79页
致谢第79-80页
攻读硕士学位期间发表的主要论文第80页

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