倒筒靶RF溅射制备BST热释电薄膜研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8-11页 |
| ·热释电红外探测器工作原理 | 第11-15页 |
| ·工作原理 | 第11-12页 |
| ·工作模式 | 第12-13页 |
| ·热释电材料性能指标 | 第13-15页 |
| ·BST 的结构性能及薄膜制备方法 | 第15-18页 |
| ·BST 的结构性能 | 第15-16页 |
| ·BST 薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·本论文主要工作 | 第18-19页 |
| 第二章 实验方法 | 第19-29页 |
| ·倒筒靶RF 溅射工艺方法 | 第19-21页 |
| ·倒筒靶 RF 溅射原理 | 第19-20页 |
| ·本文所采用的倒筒靶 RF 溅射系统简介 | 第20-21页 |
| ·BST 薄膜样品的上电极制备方法 | 第21-22页 |
| ·微观分析方法 | 第22-25页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第22-23页 |
| ·SEM 工作原理 | 第23-24页 |
| ·AFM 工作原理 | 第24-25页 |
| ·薄膜电性能测试方法 | 第25-29页 |
| ·介电性能测试方法 | 第25-26页 |
| ·热释电系数测试方法 | 第26-29页 |
| 第三章 BST 薄膜倒筒靶RF 溅射工艺研究 | 第29-57页 |
| ·靶材的制备 | 第29-32页 |
| ·工艺流程 | 第29-31页 |
| ·靶材的分析 | 第31-32页 |
| ·BST 薄膜样品的制备 | 第32-33页 |
| ·BSR 缓冲层研究 | 第33-39页 |
| ·BSR 缓冲层沉积温度对薄膜结构和性能的影响 | 第33-37页 |
| ·BSR 缓冲层溅射功率对薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
| ·BSR 缓冲层实验小结 | 第39页 |
| ·主体层工艺参数对BST 薄膜结构及性能的影响 | 第39-53页 |
| ·溅射总气压 | 第40-41页 |
| ·氧氩比 | 第41-42页 |
| ·沉积温度 | 第42-44页 |
| ·溅射功率 | 第44-45页 |
| ·靶基距 | 第45-47页 |
| ·退火温度 | 第47-48页 |
| ·自偏压 | 第48-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| ·BST 薄膜的一致性研究 | 第53-57页 |
| ·双轴旋转系统简介 | 第53-54页 |
| ·薄膜一致性分析 | 第54-57页 |
| 第四章 BST 薄膜红外单元探测器性能分析 | 第57-62页 |
| ·红外探测器的性能指标 | 第57-58页 |
| ·探测率测试系统 | 第58-59页 |
| ·单元探测器探测率的测量 | 第59-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
