摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-30页 |
·选题的背景与意义 | 第9-10页 |
·ITO 薄膜的特征与制备 | 第10-21页 |
·ITO 薄膜的结构与特征 | 第10-11页 |
·ITO 透明导电薄膜的制备方法 | 第11-21页 |
·磁控溅射法 | 第11-13页 |
·电子束蒸发法 | 第13页 |
·激活反应蒸发法 | 第13-15页 |
·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
·水热法 | 第17-21页 |
·水热法概述 | 第17-18页 |
·水热制备粉体技术 | 第18-19页 |
·水热法制备薄膜技术 | 第19-21页 |
·水热法制膜原理 | 第19-20页 |
·水热法制备薄膜的特点 | 第20页 |
·水热法单晶外延膜制备技术 | 第20页 |
·水热法多晶薄膜制备技术 | 第20-21页 |
·ITO 薄膜的基本应用 | 第21-25页 |
·ITO 薄膜在液晶显示领域的应用 | 第21-22页 |
·ITO 薄膜在热辐射反射镜及微波屏蔽和防护镜方面的应用 | 第22-23页 |
·ITO 薄膜在太阳能电池方面的应用 | 第23-24页 |
·ITO 薄膜在气敏元件方面的应用 | 第24-25页 |
·本课题研究的内容 | 第25-26页 |
参考文献 | 第26-30页 |
第二章 磁控溅射法和溶胶-凝胶法制备ITO 薄膜 | 第30-39页 |
·磁控溅射法制备ITO 薄膜 | 第30-34页 |
·实验设备和过程 | 第30-31页 |
·实验结果和分析 | 第31-34页 |
·氩气压强对薄膜结构的影响 | 第31-32页 |
·氩气压强对薄膜电学性能的影响 | 第32-33页 |
·氩气压强对薄膜光学性能的影响 | 第33-34页 |
·溶胶-凝胶法制备ITO 薄膜 | 第34-37页 |
·实验过程 | 第34-35页 |
·实验结果和分析 | 第35-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-39页 |
第三章 水热法制备ITO 薄膜 | 第39-45页 |
·实验设备及药品 | 第39-40页 |
·高压釜 | 第39页 |
·其它辅助设备 | 第39页 |
·实验药品 | 第39-40页 |
·实验部分 | 第40-44页 |
·前驱物的选择 | 第40页 |
·衬底的选择 | 第40-41页 |
·实验设计 | 第41-43页 |
·实验工艺 | 第43-44页 |
·载玻片的清洗 | 第43-44页 |
·水热处理 | 第44页 |
·产物处理 | 第44页 |
参考文献 | 第44-45页 |
第四章 水热法制备ITO 薄膜的结果分析及结构、性能测试 | 第45-75页 |
·分析测试手段 | 第45-51页 |
·结构分析 | 第45-47页 |
·热分析 | 第45页 |
·X 射线衍射谱分析 | 第45-46页 |
·扫描电子显微分析 | 第46页 |
·能谱分析 | 第46-47页 |
·电学性能 | 第47-48页 |
·ITO 薄膜的导电原理 | 第47页 |
·ITO 薄膜电学性能的测量 | 第47-48页 |
·光学性能 | 第48-50页 |
·ITO 薄膜的透光原理 | 第48-49页 |
·ITO 薄膜的透光率的测量 | 第49-50页 |
·薄膜的折射率和厚度的测量 | 第50-51页 |
·薄膜的化学稳定性测量 | 第51页 |
·正交实验结果及讨论 | 第51-58页 |
·ITO 薄膜 | 第51-54页 |
·ITO 粉体 | 第54-58页 |
·单因素水平实验 | 第58-69页 |
·前驱物浓度 | 第58-59页 |
·氨水浓度 | 第59-62页 |
·保温温度 | 第62-64页 |
·保温时间 | 第64-67页 |
·镀膜次数 | 第67-69页 |
·薄膜的结构分析 | 第69-72页 |
·ITO 透明导电薄膜从凝胶向结晶过程的转变 | 第69-70页 |
·ITO 透明导电薄膜与基体的结合状况 | 第70-71页 |
·ITO 透明导电薄膜的表面形貌 | 第71-72页 |
·ITO 透明导电薄膜的化学稳定性 | 第72页 |
·薄膜的生长机理 | 第72-73页 |
·粉体的生长机理 | 第73-74页 |
·本章小结 | 第74页 |
参考文献 | 第74-75页 |
第五章 结论 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
在校期间发表论文 | 第78页 |