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ITO薄膜的水热法制备与性能研究

摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第一章 文献综述第9-30页
   ·选题的背景与意义第9-10页
   ·ITO 薄膜的特征与制备第10-21页
     ·ITO 薄膜的结构与特征第10-11页
     ·ITO 透明导电薄膜的制备方法第11-21页
       ·磁控溅射法第11-13页
       ·电子束蒸发法第13页
       ·激活反应蒸发法第13-15页
       ·化学气相沉积法第15-16页
       ·溶胶-凝胶法第16-17页
       ·水热法第17-21页
         ·水热法概述第17-18页
         ·水热制备粉体技术第18-19页
         ·水热法制备薄膜技术第19-21页
           ·水热法制膜原理第19-20页
           ·水热法制备薄膜的特点第20页
           ·水热法单晶外延膜制备技术第20页
           ·水热法多晶薄膜制备技术第20-21页
   ·ITO 薄膜的基本应用第21-25页
     ·ITO 薄膜在液晶显示领域的应用第21-22页
     ·ITO 薄膜在热辐射反射镜及微波屏蔽和防护镜方面的应用第22-23页
     ·ITO 薄膜在太阳能电池方面的应用第23-24页
     ·ITO 薄膜在气敏元件方面的应用第24-25页
   ·本课题研究的内容第25-26页
 参考文献第26-30页
第二章 磁控溅射法和溶胶-凝胶法制备ITO 薄膜第30-39页
   ·磁控溅射法制备ITO 薄膜第30-34页
     ·实验设备和过程第30-31页
     ·实验结果和分析第31-34页
       ·氩气压强对薄膜结构的影响第31-32页
       ·氩气压强对薄膜电学性能的影响第32-33页
       ·氩气压强对薄膜光学性能的影响第33-34页
   ·溶胶-凝胶法制备ITO 薄膜第34-37页
     ·实验过程第34-35页
     ·实验结果和分析第35-37页
   ·本章小结第37-38页
 参考文献第38-39页
第三章 水热法制备ITO 薄膜第39-45页
   ·实验设备及药品第39-40页
     ·高压釜第39页
     ·其它辅助设备第39页
     ·实验药品第39-40页
   ·实验部分第40-44页
     ·前驱物的选择第40页
     ·衬底的选择第40-41页
     ·实验设计第41-43页
     ·实验工艺第43-44页
       ·载玻片的清洗第43-44页
       ·水热处理第44页
       ·产物处理第44页
 参考文献第44-45页
第四章 水热法制备ITO 薄膜的结果分析及结构、性能测试第45-75页
   ·分析测试手段第45-51页
     ·结构分析第45-47页
       ·热分析第45页
       ·X 射线衍射谱分析第45-46页
       ·扫描电子显微分析第46页
       ·能谱分析第46-47页
     ·电学性能第47-48页
       ·ITO 薄膜的导电原理第47页
       ·ITO 薄膜电学性能的测量第47-48页
     ·光学性能第48-50页
       ·ITO 薄膜的透光原理第48-49页
       ·ITO 薄膜的透光率的测量第49-50页
     ·薄膜的折射率和厚度的测量第50-51页
     ·薄膜的化学稳定性测量第51页
   ·正交实验结果及讨论第51-58页
     ·ITO 薄膜第51-54页
     ·ITO 粉体第54-58页
   ·单因素水平实验第58-69页
     ·前驱物浓度第58-59页
     ·氨水浓度第59-62页
     ·保温温度第62-64页
     ·保温时间第64-67页
     ·镀膜次数第67-69页
   ·薄膜的结构分析第69-72页
     ·ITO 透明导电薄膜从凝胶向结晶过程的转变第69-70页
     ·ITO 透明导电薄膜与基体的结合状况第70-71页
     ·ITO 透明导电薄膜的表面形貌第71-72页
     ·ITO 透明导电薄膜的化学稳定性第72页
   ·薄膜的生长机理第72-73页
   ·粉体的生长机理第73-74页
   ·本章小结第74页
 参考文献第74-75页
第五章 结论第75-77页
致谢第77-78页
在校期间发表论文第78页

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