| 第一章 前言 | 第1-20页 |
| ·快离子导体概述 | 第9页 |
| ·氧离子导体 | 第9-13页 |
| ·氧离子导体的研究现状 | 第10-12页 |
| ·氧离子导体的发展趋势 | 第12-13页 |
| ·BIMEVOX体系氧离子导体 | 第13-18页 |
| ·BIMEVOX体系的研究概况 | 第13-17页 |
| ·BIMEVOX体系研究中存在的问题 | 第17-18页 |
| ·本论文研究的基本思路 | 第18-20页 |
| 第二章 Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的合成与制备 | 第20-26页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)粉体的合成与制备 | 第20-25页 |
| ·EDTA-柠檬酸盐法的基本原理 | 第20-21页 |
| ·实验过程 | 第21-22页 |
| ·结果和讨论 | 第22-25页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)陶瓷的制备 | 第25-26页 |
| 第三章 烧结工艺对Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)结构和氧离子导电性能的影响 | 第26-43页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的烧结性能 | 第26-31页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)生坯的TG-DSC曲线 | 第27-28页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)生坯的热收缩曲线 | 第28-29页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)陶瓷的相对密度 | 第29-31页 |
| ·烧结工艺对Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)陶瓷结构的影响 | 第31-34页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)陶瓷的XRD分析 | 第31页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的SEM分析 | 第31-34页 |
| ·烧结工艺对Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)氧离子导电性能的影响 | 第34-43页 |
| ·交流阻抗谱测试的基本原理 | 第35-37页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的氧离子导电性能 | 第37-43页 |
| 第四章 Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的相变行为及其对氧离子导电性能的影响 | 第43-52页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的有序-无序相变 | 第43-46页 |
| ·BIMEVOX(ME=Cu，Co)的DSC分析 | 第44-45页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)陶瓷的热膨胀分析 | 第45-46页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)的相变行及对氧离子导电性能的影响 | 第46-52页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)氧离子导电率的Arrhenius曲线 | 第47页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)氧离子导电率的热滞现象 | 第47-50页 |
| ·Bi_2Me_(0.1)V_(0.9)O_(5.5-δ)(Me=Co，Cu)陶瓷离子导电性能的稳定性 | 第50-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
