| 第一章 界面分子组装与表面浸润的相关进展 | 第1-38页 |
| ·自组装超薄膜简介 | 第8-11页 |
| ·LB 膜 | 第8页 |
| ·交替沉积膜 | 第8页 |
| ·自组装膜 | 第8-9页 |
| ·有机硫化物类自组装膜 | 第9-11页 |
| ·树枝状分子简介 | 第11-15页 |
| ·树枝状分子的结构特征 | 第11-12页 |
| ·树枝状分子的合成方法 | 第12页 |
| ·发散合成法 | 第12页 |
| ·收敛合成法 | 第12页 |
| ·树枝状分子的特点 | 第12-13页 |
| ·树枝状分子自组装单层膜 | 第13-15页 |
| ·表面润湿现象 | 第15-22页 |
| ·铺展系数 | 第15-16页 |
| ·接触角及Young氏方程 | 第16-17页 |
| ·超疏水与超亲水表面 | 第17-20页 |
| ·Wenzel模型 | 第18-19页 |
| ·Cassie 模型 | 第19-20页 |
| ·接触角滞后 | 第20-22页 |
| ·智能响应表面 | 第22-26页 |
| ·论文的研究思路 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-38页 |
| 第二章 电沉积粗糙表面的制备 | 第38-60页 |
| ·树枝状硫醇分子(HOOC)_4-[G-2]-SH的合成 | 第38-45页 |
| ·药品、溶剂和仪器 | 第38-39页 |
| ·树枝状分子(CH_3OOC)_4-[G-2]-Br 的合成 | 第39-42页 |
| ·树枝状分子(HOOC)_4-[G-2]-SH 的合成 | 第42-45页 |
| ·树枝状硫醇分子自组装单层膜的制备与表征 | 第45-49页 |
| ·金片的制备 | 第45-46页 |
| ·自组装单层膜的制备 | 第46-47页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) 表征 | 第47页 |
| ·扫描隧道显微镜(STM) 表征 | 第47-49页 |
| ·电化学沉积与粗糙表面 | 第49-57页 |
| ·电化学沉积实验部分 | 第49页 |
| ·粗糙表面的扫描电子显微镜(SEM) 表征 | 第49-52页 |
| ·电沉积时间的影响 | 第49-50页 |
| ·电沉积膜板的影响 | 第50-52页 |
| ·粗糙表面的原子力显微镜(AFM) 表征 | 第52-54页 |
| ·粗糙表面的粗糙度的电化学表征 | 第54-57页 |
| 小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第三章 超疏水、超亲水、pH 响应表面的制备 | 第60-87页 |
| ·超疏水、超亲水表面的制备与表征 | 第60-65页 |
| ·超疏水表面的制备 | 第60-62页 |
| ·不同链长的烷基硫醇化学修饰的粗糙表面 | 第62-64页 |
| ·超亲水表面的制备 | 第64-65页 |
| ·pH智能响应表面的制备与表征 | 第65-79页 |
| ·pH响应分子的设计 | 第65-67页 |
| ·pH响应分子自组装单层膜的制备 | 第67页 |
| ·pH响应分子自组装单层膜的表征 | 第67-79页 |
| ·XPS表征 | 第68-69页 |
| ·STM 表征 | 第69-70页 |
| ·电化学表征 | 第70-71页 |
| ·IR 表征 | 第71-75页 |
| ·液体红外透射谱 | 第71页 |
| ·浇铸膜的红外透射和RAS谱 | 第71-73页 |
| ·自组装单层膜的红外RAS谱 | 第73-75页 |
| ·接触角表征 | 第75-76页 |
| ·表面自由能的测量 | 第76-79页 |
| ·pH 响应粗糙表面 | 第79-83页 |
| ·不同pH缓冲溶液的配置 | 第79页 |
| ·pH响应分子修饰的粗糙表面的制备 | 第79-81页 |
| ·pH响应分子混合膜修饰的粗糙表面的制备 | 第81-83页 |
| 小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 中文摘要 | 第87-90页 |
| 英文摘要(Abstract) | 第90-94页 |
| 作者简历及发表文章 | 第94-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
