具有软基底的阵列式碳纳米管膜的制备和性能测试
第一章 绪论 | 第1-16页 |
·简介 | 第8页 |
·碳纳米管的结构 | 第8-10页 |
·碳纳米管的性质 | 第10-11页 |
·力学性能 | 第10页 |
·电学性能 | 第10页 |
·磁学性能 | 第10-11页 |
·热学性能 | 第11页 |
·光学性能 | 第11页 |
·碳纳米管的应用 | 第11-13页 |
·场发射 | 第11页 |
·大容量超级电容器 | 第11-12页 |
·储气 | 第12页 |
·传感器 | 第12页 |
·复合增强材料 | 第12页 |
·吸波材料 | 第12-13页 |
·阵列式碳纳米管的研究现状 | 第13-14页 |
·采用后处理的方法获得阵列碳纳米管 | 第13页 |
·直接在基底上得到碳纳米管的有序宏观体 | 第13-14页 |
·阵列式碳纳米管的大规模生长 | 第14页 |
·课题来源及研究意义 | 第14-16页 |
·课题的来源 | 第14-15页 |
·课题研究的内容 | 第15-16页 |
第二章 实验设备和实验方法 | 第16-24页 |
·实验设备和仪器 | 第16-19页 |
·沉积碳纳米管实验设备 | 第16页 |
·制造碳纳米管/聚合物复合材料设备 | 第16-18页 |
·表面修饰等离子刻蚀设备 | 第18页 |
·碳纳米管检测设备 | 第18页 |
·过滤设备 | 第18-19页 |
·检测离子浓度设备 | 第19页 |
·实验方法 | 第19-24页 |
·沉积有衬底定向碳纳米管膜方法 | 第19-20页 |
·制造软衬底碳纳米管膜方法 | 第20页 |
·制造定向碳纳米管/聚合物复合材料膜实验方法 | 第20页 |
·射频等离子刻蚀碳纳米管复合膜实验方法 | 第20-21页 |
·检测碳纳米管膜方法 | 第21页 |
·测过滤膜实验方法 | 第21-22页 |
·测膜电阻实验方法 | 第22页 |
·液体材料黏度的测定方法 | 第22-24页 |
第三章 CVD法制备工艺对碳纳米管阵列式的影响 | 第24-31页 |
前言 | 第24页 |
·实验准备 | 第24页 |
·实验结果与讨论 | 第24-30页 |
·阵列式碳纳米管生长的特征图 | 第25页 |
·温度对生长碳纳米管阵列的影响 | 第25-27页 |
·加水对碳纳米管生长的影响 | 第27-29页 |
·二茂铁的浓度 | 第29-30页 |
·生长时间 | 第30页 |
·小结 | 第30-31页 |
第四章 阵列式碳纳米管膜的重组装 | 第31-41页 |
·前言 | 第31页 |
·试验方法 | 第31-32页 |
·实验结果与讨论 | 第32-40页 |
·影响揭膜的因素 | 第32-35页 |
·生长基底 | 第32-33页 |
·碳纳米管的生长时间 | 第33-34页 |
·热处理 | 第34-35页 |
·其它方式 | 第35页 |
·被分离在不同新基底上的碳纳米管的形貌 | 第35-37页 |
·压敏胶作用下的碳纳米管膜的寿命 | 第37页 |
·制造碳纳米管/聚合物复合 | 第37-39页 |
·聚乙烯醇黏度对制造碳纳米管/聚合物复合的影响 | 第37-38页 |
·离心旋转速度 | 第38页 |
·表面修饰 | 第38-39页 |
·等离子刻蚀 | 第39-40页 |
·小结 | 第40-41页 |
第五章 阵列式碳纳米管膜的性能表征 | 第41-45页 |
·阵列碳纳米管膜的电阻 | 第41页 |
·阵列碳纳米管的过滤性能 | 第41-44页 |
·不同材料过滤性能的比较 | 第41-42页 |
·不同形状碳纳米管膜的过滤性 | 第42-43页 |
·不同的碳纳米管膜面积的过滤性能比较 | 第43-44页 |
小结 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
附:发表的论文 | 第50页 |