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基于多孔硅的一维光子晶体研究

第一章 导论第1-29页
   ·光子晶体概述第10-19页
     ·光子晶体及其性质第10-15页
     ·光子晶体的应用及其制备技术第15-16页
     ·一维光子晶体特性第16-19页
   ·基于多孔硅一维光子晶体的介绍第19-27页
     ·多孔硅材料及其形成第19-22页
     ·多孔硅材料的应用第22-24页
     ·基于多孔硅一维光子晶体的介绍第24-27页
   ·本论文的研究内容及其技术路线第27-28页
   ·本论文的研究意义第28-29页
第二章 基于多孔硅一维光子晶体原理及制作方法第29-50页
   ·多孔硅一维光子晶体的制备原理第29-31页
     ·多孔硅一维光子晶体制备原理第29-30页
     ·孔度的测量第30-31页
   ·实验设备介绍第31-37页
     ·电化学腐蚀设备第31页
     ·基于虚拟仪器的电化学测控设备第31-33页
     ·多孔硅一维光子晶体控制程序介绍第33-37页
   ·多孔硅的一维光子晶体制备工艺影响因素探讨第37-46页
     ·电流密度第37-38页
     ·氢氟酸浓度第38-40页
     ·硅衬底选择第40-42页
     ·制备温度第42-44页
     ·阳极氧化时间第44-46页
   ·多孔硅的一维光子晶体制备工艺流程第46-47页
   ·多孔硅一维光子晶体制备的可靠性问题第47-50页
     ·高电流密度下的塌陷现象第47-49页
     ·多孔硅一维光子晶体的表面和界面控制第49-50页
第三章 多孔硅一维光子晶体的设计第50-68页
   ·多孔硅一维光子晶体的光学常数第50-51页
     ·折射率的确定第50-51页
     ·薄膜厚度的确定第51页
   ·多孔硅一维光子晶体的设计方法第51-59页
     ·布拉格公式和传输矩阵方法介绍第51-53页
     ·基于MATLAB的多孔硅一维光子晶体设计方法第53-59页
   ·多孔硅一维光子晶体的模拟结果第59-68页
     ·多孔硅一维光子晶体禁带分析第59-62页
     ·多孔硅一维光子晶体结构的模拟第62-64页
     ·多孔硅一维光子晶体缺陷结构的模拟第64-68页
第四章 多孔硅一维光子晶体的表征第68-79页
   ·高精度电子透射显微镜测试结构分析第68-73页
   ·傅立叶红外光谱仪测试和分析第73-76页
   ·多孔硅一维光子晶体稳定性探索第76-79页
第五章 结论与展望第79-82页
   ·结论第79-80页
   ·展望第80-82页
参考文献第82-87页
致谢第87-88页
攻读学位期间发表的学术论文目录第88页

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