| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-48页 |
| ·光通信中的集成光波导技术 | 第10-21页 |
| ·光通信历史 | 第10-12页 |
| ·光通信的特点 | 第12-13页 |
| ·集成光波导材料概述 | 第13-16页 |
| ·硅基二氧化硅光波导材料的制备方法 | 第16-20页 |
| ·集成光波导技术 | 第20-21页 |
| ·集成光波导材料的参数测量方法 | 第21-36页 |
| ·集成光波导材料参数的测量方法概述 | 第21-32页 |
| ·棱镜耦合法和泄漏波导法阐述 | 第32-35页 |
| ·各种测量方法的比较 | 第35-36页 |
| ·基于负折射率材料的光波导概述 | 第36-39页 |
| ·本文研究内容、主要工作 | 第39-41页 |
| ·本文的研究内容 | 第39-41页 |
| ·作者的主要创新工作及贡献 | 第41页 |
| 参考文献 | 第41-48页 |
| 第二章 棱镜耦合法和泄漏波导法测量基础理论研究 | 第48-84页 |
| ·棱镜耦合法和泄漏波导法测量的理论基础─倏逝波与光学隧道效应 | 第48-56页 |
| ·倏逝波及其性质 | 第48-52页 |
| ·倏逝波的实验检测 | 第52-53页 |
| ·光学隧道效应 | 第53-54页 |
| ·光学隧道效应的应用 | 第54-56页 |
| ·棱镜耦合和泄漏波导系统的模拟理论─传输矩阵法 | 第56-60页 |
| ·棱镜耦合和泄漏波导系统的波导模式理论─转移矩阵法 | 第60-82页 |
| ·基于正折射率介质薄膜的转移矩阵法 | 第61-71页 |
| ·基于负折射率介质薄膜的转移矩阵法 | 第71-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 第三章 棱镜耦合法的研究与改进 | 第84-122页 |
| ·用于正折射率介质薄膜参数的测量 | 第84-109页 |
| ·一般棱镜耦合法的测量原理 | 第84-85页 |
| ·测量实验设计 | 第85-89页 |
| ·弱耦合的重要性和测量精度 | 第89-90页 |
| ·波导薄膜参数厚度和折射率的计算 | 第90-92页 |
| ·棱镜耦合法用于块材料折射率的测量 | 第92-96页 |
| ·棱镜耦合法用于波导薄膜损耗的测量 | 第96-97页 |
| ·棱镜耦合法的设计改进 | 第97-105页 |
| ·传输矩阵法模拟论证 | 第105-109页 |
| ·棱镜耦合法用于负折射率光波导参数测量的理论分析 | 第109-118页 |
| ·棱镜耦合法的测量模型 | 第109-110页 |
| ·棱镜耦合法的测量理论分析 | 第110-112页 |
| ·棱镜耦合系统的精确理论模型 | 第112-115页 |
| ·传输矩阵法的模拟论证 | 第115-118页 |
| 参考文献 | 第118-122页 |
| 第四章 泄漏波导法的研究与改进 | 第122-140页 |
| ·一般泄漏波导法的测量原理与设计 | 第122-128页 |
| ·引言 | 第122-123页 |
| ·泄漏波导的测量原理─射线法分析 | 第123-124页 |
| ·实验测量装置 | 第124-126页 |
| ·薄膜参数的具体计算方法 | 第126-128页 |
| ·泄漏波导法的设计改进 | 第128-134页 |
| ·改进泄漏波导法的新理论模型 | 第129-130页 |
| ·单层薄膜折射率和厚度的计算 | 第130-131页 |
| ·新理论模型的正确性验证 | 第131-133页 |
| ·理论模型用于薄膜测量的有效性 | 第133-134页 |
| ·传输矩阵理论模拟论证 | 第134-138页 |
| 参考文献 | 第138-140页 |
| 第五章 棱镜耦合法及泄漏波导法用于集成光波导参数测量的实验 | 第140-150页 |
| ·棱镜耦合法用于单层波导材料参数的测量实验 | 第140-144页 |
| ·实验装置设计 | 第140-141页 |
| ·改进棱镜耦合法精确性的实验验证 | 第141-143页 |
| ·改进棱镜耦合法用于波导薄膜参数的测量实验 | 第143-144页 |
| ·泄漏波导法用于单层泄漏波导材料参数的测量实验 | 第144-149页 |
| ·实验装置设计 | 第144-145页 |
| ·改进泄漏波导法精确性的实验验证 | 第145-148页 |
| ·改进泄漏波导法用于薄膜参数的测量实验 | 第148-149页 |
| 参考文献 | 第149-150页 |
| 第六章 PECVD法制作高性能硅基二氧化硅光波导材料的研究 | 第150-168页 |
| ·PECVD原理和实验系统 | 第150-152页 |
| ·实验条件 | 第152-153页 |
| ·实验结果及讨论 | 第153-164页 |
| ·工艺参数对沉积速率的影响 | 第154-157页 |
| ·工艺参数对薄膜折射率的影响 | 第157-161页 |
| ·薄膜的红外光谱 | 第161-163页 |
| ·薄膜表面的形貌观察 | 第163-164页 |
| ·结论 | 第164-165页 |
| 参考文献 | 第165-168页 |
| 第七章 总结与展望 | 第168-174页 |
| ·论文总结 | 第168-169页 |
| ·论文的不足以及改进 | 第169-170页 |
| ·基于集成光器件的全光网络的展望 | 第170-171页 |
| 参考文献 | 第171-174页 |
| 攻博期间发表的学术论文 | 第174-176页 |
| 致谢 | 第176页 |
