第1章 绪论 | 第1-32页 |
·抗菌材料概述 | 第9页 |
·无机抗菌材料 | 第9-13页 |
·银系金属元素抗菌材料 | 第10-12页 |
·光催化抗菌材料 | 第12-13页 |
·半导体氧化物抗菌材料 | 第13-26页 |
·概述 | 第13-14页 |
·半导体氧化物材料的抗菌机理及抗菌动力学研究 | 第14-16页 |
·半导体氧化物的抗菌改性手段 | 第16-26页 |
·有机染料敏化 | 第17-18页 |
·表面贵金属沉积 | 第18-19页 |
·金属离子掺杂 | 第19-23页 |
·半导体耦合 | 第23-25页 |
·非金属离子掺杂 | 第25-26页 |
·半导体氧化物的抗菌活性和安全性评价 | 第26-29页 |
·抗菌活性评价 | 第26-28页 |
·安全性评价 | 第28-29页 |
·半导体氧化物抗菌材料的应用 | 第29-30页 |
·本论文意义 | 第30-32页 |
第2章 纳米TiO_2的制备和掺杂及其抗菌性能研究 | 第32-50页 |
·试验仪器和试剂 | 第32页 |
·抗菌检测设备和材料 | 第32-33页 |
·纳米TiO_2抗菌材料的制备 | 第33-35页 |
·纳米TiO_2的制备 | 第33-34页 |
·掺V、Mn、Zn的纳米TiO_2的制备 | 第34-35页 |
·Ag和V共掺的纳米TiO_2的制备 | 第35页 |
·纳米TiO_2和掺杂纳米TiO_2的表征 | 第35-37页 |
·TiO_2结构分析 | 第35页 |
·TiO_2的光学性能表征 | 第35页 |
·抗菌试验及活性评价 | 第35-37页 |
·纳米TiO_2抗菌剂的表征和抗菌活性评价 | 第37-50页 |
·一元掺杂样品分析 | 第38-43页 |
·X射线衍射分析 | 第38-40页 |
·TEM分析 | 第40-41页 |
·紫外-可见光谱分析 | 第41-43页 |
·抗菌性能分析 | 第43页 |
·共掺样品分析 | 第43-48页 |
·X射线衍射分析 | 第43-45页 |
·TEM分析 | 第45页 |
·隧道扫描电镜分析 | 第45-47页 |
·紫外-可见光谱分析 | 第47-48页 |
·抗菌性能分析 | 第48页 |
·小结 | 第48-50页 |
第3章 T-ZnO的掺杂及其抗菌性能研究 | 第50-59页 |
·前言 | 第50-51页 |
·实验仪器和试剂 | 第51页 |
·T-ZnO抗菌材料的制备 | 第51-52页 |
·T-ZnO样品的表征 | 第52页 |
·T-ZnO结构分析 | 第52页 |
·抗菌试验及活性评价 | 第52页 |
·T-ZnO样品结果分析 | 第52-59页 |
·结构分析 | 第52-57页 |
·抗菌性能分析 | 第57-58页 |
·小结 | 第58-59页 |
结论 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-65页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |