| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 插图索引 | 第11-13页 |
| 附表索引 | 第13-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-31页 |
| ·纳米材料概述 | 第14页 |
| ·纳米线及其阵列体系的研究与合成方法概述 | 第14-26页 |
| ·模板限域法合成纳米线 | 第15-22页 |
| ·阶边精饰法合成纳米线 | 第22-24页 |
| ·气-液-固生长机制激光烧蚀法合成半导体纳米线 | 第24-26页 |
| ·溶液-液相-固相生长法合成纳米线 | 第26页 |
| ·纳米线的应用 | 第26-29页 |
| ·功能复合材料 | 第26-27页 |
| ·纳米阵列体系 | 第27页 |
| ·传感器方面的应用 | 第27-28页 |
| ·磁电阻效应的应用 | 第28页 |
| ·光电器件和分子器件 | 第28-29页 |
| ·电池方面的应用 | 第29页 |
| ·本论文的立项意义与研究内容 | 第29-31页 |
| ·立项意义 | 第29-30页 |
| ·研究内容 | 第30-31页 |
| 第2章 实验方法与原理 | 第31-42页 |
| ·电化学实验 | 第31-32页 |
| ·其它实验方法 | 第32-34页 |
| ·电沉积合金成分分析—原子发射光谱法(AES) | 第32页 |
| ·纳米线的形貌表征—扫描电镜(SEM) | 第32-33页 |
| ·纳米线的合金成分分析—X-射线能谱法(EDS) | 第33-34页 |
| ·电沉积合金的基本理论 | 第34-36页 |
| ·金属共沉积的条件 | 第34-35页 |
| ·实现金属共沉积的措施 | 第35-36页 |
| ·镀液组成及工艺条件对电沉积合金成分的影响 | 第36-39页 |
| ·镀液组成对合金成分的影响 | 第36-38页 |
| ·工艺条件对合金成分的影响 | 第38-39页 |
| ·电沉积合金的研究方法 | 第39-42页 |
| ·极化曲线法 | 第39-40页 |
| ·循环伏安法 | 第40-42页 |
| 第3章 低浓度镀液体系中钯镍共沉积规律的研究 | 第42-52页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·低浓度下钯镍共沉积镀液体系的确定 | 第43-45页 |
| ·简单离子镀液中钯镍共沉积的理论计算和循环伏安实验验证 | 第43-44页 |
| ·氨作配合剂的镀液体系中钯镍共沉积的理论计算 | 第44-45页 |
| ·钯、镍及其合金的沉积机理研究 | 第45-51页 |
| ·钯、镍及其合金电沉积的极化曲线研究 | 第45-46页 |
| ·钯镍合金电沉积过程中析氢副反应的研究 | 第46-48页 |
| ·高定向石墨电极上钯镍合金电沉积的循环伏安行为研究 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 镀液组成及工艺条件对电沉积钯镍合金组成的影响 | 第52-58页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·镀液组成及工艺条件 | 第52页 |
| ·实验方法 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-56页 |
| ·镀液中金属离子浓度对合金成分的影响 | 第53-54页 |
| ·工艺条件对合金成分的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 HOPG上电化学阶边精饰法合成钯镍合金纳米线的研究 | 第58-78页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·HOPG上电沉积法合成金属纳米线 | 第58-62页 |
| ·HOPG上纳米线的合成原理 | 第58-59页 |
| ·HOPG上纳米线的合成方法 | 第59-62页 |
| ·HOPG上钯镍合金纳米线的合成 | 第62-66页 |
| ·HOPG基底处理的两种方法 | 第62-63页 |
| ·恒电势脉冲法和恒电流脉冲法合成钯镍合金纳米线 | 第63-66页 |
| ·沉积条件对钯镍合金纳米线合成质量的影响 | 第66-71页 |
| ·沉积条件对钯镍合金纳米线合金成分的影响 | 第71-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 结论 | 第78-81页 |
| 参考文献 | 第81-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 附录(攻读硕士期间发表的论文目录) | 第95页 |
