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紫杉烷类化合物SINENXAN A的化学及结构修饰

摘要第1页
ABSTRACF第6-7页
缩写词对照表第7-8页
前言第8-12页
第一部分 侧链的合成第12-17页
 一、N—苯甲酰基—(2R,3S)—异丝氨酸的合成设计第12-13页
 二、结果及讨论第13-16页
  1.D—阿拉伯糖为手性诱导剂第13-15页
  2.S—α—苯乙胺为手性诱导剂第15-16页
 三、小结第16-17页
第二部分 母核的化学第17-23页
 一.设计第17页
  1.水解及酰化反应。第17页
   ·,20烯键的双羟化反应考察第17页
 二、结果及讨论第17-22页
  1.碱水解反应第17-19页
  2.乙酰化反应第19-20页
   ·,20烯键的双羟化反应第20-22页
 三、小结第22-23页
第三部分 母核的修饰,一引入D—环oxetane第23-49页
 —、设计第23-28页
  1.合成路线的设计第23-27页
  2.起始物的选择第27-28页
  3.保护基的选择第28页
 二、结果及讨论第28-48页
  (一) 引入保护基第28-34页
   1.tBuMe_2SiOTf作为保护基试剂第28-31页
   2.TESCI作为保护基试剂第31-34页
  (二) SIS—095—Ac的去除第34-35页
  (三) 引入D—环oxetane的尝试第35-48页
   1.甲磺酸酯途径第35-39页
   2.SIS—12先转化为“三羟基化合物”的途径第39-48页
    (1) SIS—12的双羟化第39-42页
    (2) 利用“三羟基化合物”SIS—26进行合环尝试第42-48页
     1) “一锅煮”的方法第42-44页
      A.甲磺酰氯法第42-43页
      B.三氟甲磺酸酐法第43页
      C.三氟甲磺酸酐法(升高反应温度)第43-44页
     2) 分出关键中间体SIS—45进行合环尝试第44-46页
      A.DBU法第44-45页
      B.硅酸法第45页
      C.NaH法第45-46页
     3) 分步法第46-48页
      A.SIS一26的20—OH TMS保护第46-47页
      B.SIS—44的三氟甲磺酰化第47页
      C.SIS—31去除20—TMS保护基第47-48页
 三、小结第48-49页
  (一) 引入保护基及双羟化第48页
  (二) 构建D—环oxetane第48-49页
第四部分 母核的修饰(二),一引入五员氧杂环第49-61页
 一、母核中五员环的引入第49-52页
 二、SIA的五员环修饰物接taxol/taxotere侧链合成日的物第52-58页
  1.SIS—20的水解第52页
  2.侧链与母核的偶联第52-54页
  3.侧链的去保护基第54页
   ·′—ee保护的侧链酸与母核的偶联第54-58页
 三、药理活性第58-60页
 四、小结第60-61页
第五部分 其他第61-65页
 一、硅醚保护基的去除第61-62页
 二、机理的验证第62-64页
 三、小结第64-65页
总结第65-66页
实验部分第66-98页
致谢第98-99页
参考文献第99-102页
化合物结构一览表第102-109页
附图第109-166页

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