| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-18页 |
| ·选题背景 | 第9-16页 |
| ·金属诱导结晶硅 | 第9-12页 |
| ·可见光全波段高反膜 | 第12-16页 |
| ·论文选题意义与章节安排 | 第16-18页 |
| 第2章 金属诱导结晶硅 | 第18-33页 |
| ·材料选择 | 第18-20页 |
| ·金属材料选择 | 第18-20页 |
| ·硅材料选择 | 第20页 |
| ·制备工艺 | 第20-21页 |
| ·实验结果 | 第21-23页 |
| ·工艺参数对结晶情况的影响 | 第23-32页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第23-26页 |
| ·磁控溅射真空度的影响 | 第26-28页 |
| ·退火时间及温度的影响 | 第28-30页 |
| ·其他参数的影响 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第3章 可见光全波段高反膜 | 第33-45页 |
| ·材料选择 | 第33-35页 |
| ·制备工艺 | 第35-37页 |
| ·实验结果 | 第37-38页 |
| ·工艺参数对反射率的影响 | 第38-44页 |
| ·折射率的影响 | 第38-40页 |
| ·透光性的影响 | 第40-42页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第4章 论文工作总结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第49页 |