| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-13页 |
| ·n型金刚石薄膜的研究简介 | 第9-12页 |
| ·金刚石薄膜表面的氢吸附问题 | 第12-13页 |
| 第2章 实验装置与方法 | 第13-22页 |
| ·实验装置 | 第13页 |
| ·金刚石薄膜图形化制备方法 | 第13-17页 |
| ·薄膜的检测 | 第17-20页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第17页 |
| ·拉曼(Raman)散射 | 第17-18页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第18-19页 |
| ·霍耳(Hall)效应 | 第19-20页 |
| ·第一性原理方法 | 第20-22页 |
| ·Hartree-Fork方程 | 第20页 |
| ·密度泛函理论 | 第20-22页 |
| 第3章 金刚石薄膜的图形化生长 | 第22-27页 |
| ·研磨Si衬底得金刚石薄膜的生长 | 第22-23页 |
| ·金刚石薄膜的图形化 | 第23-25页 |
| ·金刚石薄膜的电学分析 | 第25-27页 |
| 第4章 金刚石(001)表面的氢吸附 | 第27-35页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第27-29页 |
| ·金刚石表面的构建与优化 | 第29-31页 |
| ·三种不同氢覆盖度构型的态密度图和能带结构图的分析 | 第31-32页 |
| ·三种不同氢覆盖度构型的电子云 | 第32-33页 |
| ·不同氢覆盖度构型的吸附能 | 第33-35页 |
| 结束语 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-41页 |
| 硕士期间发表论文 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42页 |