| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·化学修饰电极 | 第10-11页 |
| ·化学修饰电极的意义与优越性 | 第10页 |
| ·化学修饰电极的制备 | 第10-11页 |
| ·聚萘二胺修饰电极 | 第11-20页 |
| ·导电高聚物 | 第11-12页 |
| ·萘二胺聚合物 | 第12-14页 |
| ·聚萘二胺对金属离子的反应吸附 | 第14-15页 |
| ·聚萘二胺修饰电极的制备 | 第15-16页 |
| ·聚萘二胺修饰电极的应用 | 第16-19页 |
| ·展望 | 第19-20页 |
| ·本论文研究的目的意义及问题 | 第20-21页 |
| 第二章 聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极对痕量汞的测定 | 第21-33页 |
| ·前言 | 第21页 |
| ·试验部分 | 第21-22页 |
| ·仪器与试剂 | 第21页 |
| ·聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极的制备 | 第21-22页 |
| ·测定方法 | 第22页 |
| ·结果及讨论 | 第22-32页 |
| ·聚1,8-萘二胺的电聚合 | 第22-24页 |
| ·汞在修饰电极上的吸附及响应 | 第24-26页 |
| ·富集底液及其pH | 第26-27页 |
| ·富集时间 | 第27-28页 |
| ·测定底液 | 第28页 |
| ·阳极溶出参数的选择 | 第28-29页 |
| ·干扰 | 第29-30页 |
| ·线性范围和检测限 | 第30页 |
| ·电极稳定性 | 第30-31页 |
| ·方法的重现性 | 第31页 |
| ·应用分析 | 第31-32页 |
| ·结论 | 第32-33页 |
| 第三章 聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极溶出伏安法测定银的研究 | 第33-42页 |
| ·前言 | 第33页 |
| ·试验部分 | 第33-34页 |
| ·仪器与试剂 | 第33页 |
| ·聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极的制备 | 第33-34页 |
| ·测定方法 | 第34页 |
| ·结果及讨论 | 第34-40页 |
| ·聚1,8-萘二胺修饰电极对Ag~+的富集及伏安响应 | 第34-35页 |
| ·电极响应机理分析 | 第35页 |
| ·富集条件及Ag~+在聚合膜上的富集机理探讨 | 第35-38页 |
| ·测定底液 | 第38页 |
| ·阳极溶出参数的选择 | 第38页 |
| ·干扰 | 第38-39页 |
| ·线性范围和检出限 | 第39页 |
| ·电极再生和稳定性实验 | 第39-40页 |
| ·方法的重现性 | 第40页 |
| ·应用分析 | 第40页 |
| ·结论 | 第40-42页 |
| 第四章 聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极对痕量铜的测定 | 第42-53页 |
| ·前言 | 第42-43页 |
| ·试验部分 | 第43页 |
| ·仪器与试剂 | 第43页 |
| ·聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极的制备 | 第43页 |
| ·测定方法 | 第43页 |
| ·结果及讨论 | 第43-52页 |
| ·聚1,8-萘二胺修饰电极对Cu~(2+)的响应 | 第43-44页 |
| ·铜的阳极溶出过程探讨 | 第44-46页 |
| ·富集底液的选择 | 第46页 |
| ·富集底液的pH | 第46-47页 |
| ·富集时间 | 第47-48页 |
| ·测定底液 | 第48-49页 |
| ·阳极溶出参数的选择 | 第49页 |
| ·干扰 | 第49-50页 |
| ·线性范围和检测限 | 第50-51页 |
| ·电极再生 | 第51页 |
| ·电极稳定性 | 第51页 |
| ·应用分析 | 第51-52页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| 第五章 聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极同时测定痕量的铜和汞 | 第53-61页 |
| ·前言 | 第53页 |
| ·试验部分 | 第53-54页 |
| ·仪器与试剂 | 第53页 |
| ·聚1,8-萘二胺修饰玻碳电极的制备 | 第53页 |
| ·测定方法 | 第53-54页 |
| ·结果及讨论 | 第54-60页 |
| ·铜和汞在修饰电极上的响应 | 第54-55页 |
| ·富集底液及其pH | 第55-56页 |
| ·富集时间 | 第56页 |
| ·测定底液 | 第56-57页 |
| ·阳极溶出参数的选择 | 第57页 |
| ·干扰 | 第57-58页 |
| ·线性范围和检出限 | 第58-59页 |
| ·电极稳定性 | 第59页 |
| ·方法的重现性 | 第59-60页 |
| ·应用分析 | 第60页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 作者简历 | 第69页 |
