| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-32页 |
| ·太阳光吸收涂层技术 | 第13-19页 |
| ·本体吸收涂层 | 第13-15页 |
| ·半导体吸收层 | 第15页 |
| ·多层吸收层 | 第15-16页 |
| ·金属-电介质复合涂层 | 第16-18页 |
| ·表面造型 | 第18-19页 |
| ·选择性透过层与黑体类物质的组合 | 第19页 |
| ·多孔氧化铝在太阳光吸收涂层的应用 | 第19-22页 |
| ·光子晶体 | 第19-20页 |
| ·金属-电介质复合材料 | 第20-21页 |
| ·构建格栅体吸收涂层 | 第21-22页 |
| ·多孔氧化铝的结构及形成机理 | 第22-29页 |
| ·多孔氧化铝的结构 | 第23-25页 |
| ·多孔氧化铝的形成机理 | 第25-29页 |
| ·本文研究的背景和内容 | 第29-32页 |
| ·本文研究的背景 | 第29-30页 |
| ·本文研究的内容 | 第30-32页 |
| 第二章 多孔阳极氧化铝的制备和表征 | 第32-63页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·多孔阳极氧化铝的制备 | 第32-40页 |
| ·实验装置、试剂和材料 | 第32-34页 |
| ·多孔阳极氧化铝制备流程 | 第34-36页 |
| ·主要实验参数 | 第36-39页 |
| ·常温下两步阳极氧化步骤 | 第39-40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-62页 |
| ·低温下制备的高度有序多孔氧化铝 | 第40-42页 |
| ·常温下电化学环境对成膜的影响 | 第42-57页 |
| ·两步法制备有序的多孔氧化铝膜 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第三章 金属-氧化铝复合吸收涂层制备及其光吸收性 | 第63-82页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·实验部分 | 第64-66页 |
| ·制备不同孔径/厚度的氧化铝 | 第64-65页 |
| ·电化学沉积金属 | 第65-66页 |
| ·形貌表征 | 第66页 |
| ·光学性能计算 | 第66页 |
| ·实验结果与讨论 | 第66-80页 |
| ·多孔氧化铝的光学性质 | 第66-68页 |
| ·Cu-Al_2O_3 吸收涂层 | 第68-72页 |
| ·Ni-Al_2O_3 吸收涂层 | 第72-74页 |
| ·合金-Al_2O_3 吸收涂层 | 第74-76页 |
| ·金属-氧化铝涂层的热稳定性 | 第76-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第四章 CuAl_2O_4/Cu/Al_2O_3 复合吸收涂层的制备及光热、光催化性能研究 | 第82-108页 |
| ·引言 | 第82-83页 |
| ·实验部分 | 第83-88页 |
| ·氧化铝膜板的制备 | 第83页 |
| ·CuAl_2O_4/Cu 纳米棒的合成 | 第83-84页 |
| ·CuAl_2O_4/Cu 纳米薄膜和纳米颗粒的合成 | 第84页 |
| ·材料表征 | 第84-85页 |
| ·光学常数模拟计算 | 第85-86页 |
| ·光催化实验 | 第86-88页 |
| ·实验结果与讨论 | 第88-99页 |
| ·形貌表征 | 第88-89页 |
| ·材料组成和晶型分析 | 第89-92页 |
| ·复合物的光学性质 | 第92-96页 |
| ·CuAl_2O_4/Cu 复合物纳米棒的光催化性 | 第96-99页 |
| ·电沉积CuAl_2O_4/Cu 复合物的作用机理 | 第99-107页 |
| ·电压对电沉积的影响 | 第100-102页 |
| ·溶液pH 值对结果的影响 | 第102-103页 |
| ·保护离子对结果的影响 | 第103-104页 |
| ·形成机理 | 第104-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第五章 全文总结 | 第108-110页 |
| ·主要结论 | 第108-109页 |
| ·本文创新点 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |
| 攻读博士期间发表的论文与申请专利 | 第125-126页 |
| 会议论文及获奖情况 | 第126-128页 |
