摘要 | 第1-11页 |
Abstract | 第11-15页 |
第一部分 Cu薄膜与机械研磨处理Fe表面的腐蚀与扩散行为研究 | 第15-108页 |
前言 | 第15-18页 |
第一章 研究背景与文献综述 | 第18-42页 |
·引言 | 第18-19页 |
·纳米材料的制备方法 | 第19-25页 |
·制备方法分类 | 第19-20页 |
·物理气相沉积(PVD) | 第20-21页 |
·表面机制研磨处理(SMAT) | 第21-22页 |
·混合表面纳米化 | 第22-25页 |
·扩散基本原理 | 第25-31页 |
·扩散的宏观规律 | 第25-26页 |
·扩散的热力学分析 | 第26-28页 |
·扩散的微观机制 | 第28-30页 |
·Arrhenius定律与扩散系数的影响因素 | 第30页 |
·反应扩散 | 第30-31页 |
·腐蚀基本原理 | 第31-36页 |
·腐蚀基础知识 | 第31-32页 |
·腐蚀类型及特征 | 第32-34页 |
·金属氧化过程的一般描述 | 第34-36页 |
·相关工作的研究现状 | 第36-41页 |
·金属薄膜体系的氧化传质研究现状 | 第36-38页 |
·表面纳米化金属的腐蚀与扩散相关研究 | 第38-41页 |
·问题的提出及本文的工作 | 第41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第二章 Cu薄膜的制备与结构性能表征 | 第42-53页 |
·引言 | 第42页 |
·金属薄膜的制备方法(真空蒸发法) | 第42-44页 |
·真空蒸发设备 | 第42-44页 |
·薄膜厚度控制 | 第44页 |
·薄膜表面形貌表征方法(AFM) | 第44-47页 |
·薄膜表面结构和成分表征方法(XRD) | 第47-48页 |
·薄膜氧化传质过程表征方法 | 第48-52页 |
·方块电阻法 | 第49-51页 |
·透射光谱法 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第三章 Cu薄膜的氧化传质动力学行为及机制研究 | 第53-65页 |
·引言 | 第53-54页 |
·氧化试验和动力学规律曲线 | 第54-60页 |
·薄膜条件下的氧化传质行为 | 第54-57页 |
·厚膜条件下的氧化实验和传质动力学行为 | 第57-59页 |
·扩散激活能和微观扩散机制 | 第59-60页 |
·Cu膜氧化传质模型建立和理论分析 | 第60-64页 |
·极薄膜氧化型的建立 | 第60-64页 |
·厚膜氧化动力学及扩散机制讨论 | 第64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第四章 表面机械研磨纯Fe的制备与结构性能表征 | 第65-74页 |
·引言 | 第65页 |
·样品制备 | 第65-68页 |
·原始材料及其表面纳米化处理 | 第65-66页 |
·SMAT纯Fe上镀Al及扩散处理 | 第66页 |
·SMAT纯Fe表面的低温固体粉末渗铝 | 第66-68页 |
·组织结构表征 | 第68-71页 |
·XRD分析 | 第68页 |
·SEM形貌观察和EDX成分测量 | 第68页 |
·氢脆法 | 第68-71页 |
·性能测试 | 第71-73页 |
·电化学腐蚀性能测试 | 第71-72页 |
·二次离子质谱仪(SIMS)测试 | 第72-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
第五章 SMAT处理对纯Fe腐蚀性能的影响 | 第74-90页 |
·引言 | 第74页 |
·纯Fe经SMAT处理前后的组织结构及腐蚀性能变化 | 第74-82页 |
·纯Fe经SMAT处理前后的组织结构表征 | 第74-77页 |
·纯Fe经SMAT处理前后的腐蚀性能测试 | 第77-82页 |
·316不锈钢经SMAT处理前后的组织结构及腐蚀性能变化 | 第82-87页 |
·316不锈钢经SMAT处理前后的组织结构表征 | 第82-85页 |
·316不锈钢经SMAT处理前后的腐蚀性能 | 第85-87页 |
·SMAT处理对纯Fe及不锈钢样品腐蚀行为影响的讨论 | 第87-89页 |
·本章小结 | 第89-90页 |
第六章 SMAT纯Fe的低温渗铝行为及渗层的腐蚀行为研究 | 第90-105页 |
·引言 | 第90页 |
·Al在SMAT纯Fe中的低温扩散行为研究 | 第90-97页 |
·SMAT纯Fe的固体粉末渗铝及其对腐蚀性能的影响 | 第97-104页 |
·本章小结 | 第104-105页 |
第七章 第一部分总结 | 第105-108页 |
第二部分 X-65钢表面高性能复合涂层缺陷处的局部腐蚀行为研究 | 第108-126页 |
第八章 X-65钢表面高性能复合涂层缺陷处的局部腐蚀行为研究 | 第108-126页 |
·引言 | 第108-109页 |
·实验方法及基本原理 | 第109-112页 |
·样品与测试溶液 | 第109-110页 |
·传统电化学阻抗谱(EIS)测量 | 第110页 |
·微区电化学阻抗谱(LEIS)测量 | 第110-112页 |
·X-65钢在涂层缺陷处的局部电化学阻抗谱(LEIS)研究 | 第112-121页 |
·200 μm 尺寸缺陷处的LEIS测量结果 | 第112-114页 |
·1000 μm尺寸缺陷处的LEIS测量结果 | 第114-116页 |
·涂层完整处的LEIS测量结果 | 第116-117页 |
·涂层缺陷区域的LEIS扫描图 | 第117-118页 |
·对整个工作电极扫描所得的传统EIS测量结果 | 第118-121页 |
·分析与讨论 | 第121-124页 |
·涂层缺陷的尺寸对管线钢局部腐蚀行为的影响 | 第121-123页 |
·涂层完整处的局部电化学阻抗谱行为 | 第123-124页 |
·与传统的电化学阻抗谱结果的比较 | 第124页 |
·本章小结 | 第124-126页 |
参考文献 | 第126-143页 |
附录 | 第143-145页 |
博士期间论文、专利情况 | 第143-144页 |
获奖情况 | 第144-145页 |
后记 | 第145-146页 |