| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·氢气敏感材料研究现状 | 第10-13页 |
| ·热电型氢敏材料 | 第10-11页 |
| ·半导体型氢敏材料 | 第11-12页 |
| ·光学型氢敏材料 | 第12-13页 |
| ·V_2O_5薄膜的特性及应用 | 第13-14页 |
| ·V_2O_5薄膜的电致变色特性及应用 | 第13-14页 |
| ·V_2O_5薄膜的气致变色特性及应用 | 第14页 |
| ·V_2O_5薄膜应用于气体传感器的研究现状 | 第14-15页 |
| ·本文的研究目的、意义及主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 V_2O_5和Pd的结构、性质及薄膜制备方法 | 第16-24页 |
| ·V_2O_5的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·V_2O_5的结构缺陷及能带结构 | 第17-18页 |
| ·V_2O_5的结构缺陷 | 第17-18页 |
| ·V_2O_5的能带结构 | 第18页 |
| ·Pd及Pd氢化合物的结构与性质 | 第18-19页 |
| ·V_2O_5、Pd薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20页 |
| ·真空蒸发法 | 第20-21页 |
| ·溅射法 | 第21-22页 |
| ·小结 | 第22-24页 |
| 第三章 V_2O_5/Pd薄膜的制备、表征及氢气敏感性能 | 第24-43页 |
| ·V_2O_5/Pd薄膜的制备 | 第24-27页 |
| ·主要实验材料和试剂 | 第24页 |
| ·主要实验仪器 | 第24页 |
| ·实验前的准备 | 第24-25页 |
| ·V_2O_5/Pd薄膜膜厚实验设计 | 第25页 |
| ·镀膜实验步骤 | 第25-27页 |
| ·V_2_O5/Pd薄膜的表征 | 第27-33页 |
| ·X射线衍射分析 | 第27-28页 |
| ·紫外.可见光谱分析 | 第28-30页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第30-33页 |
| ·V_2O_5/Pd薄膜的氢气敏感性能测试 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-42页 |
| ·V_2O_5/Pd膜与氢气反应过程分析 | 第34-37页 |
| ·影响V_2O_5/Pd薄膜氢气敏感特性的因素 | 第37-41页 |
| ·催化剂对V_2O_5薄膜氢气敏感特性的影响 | 第37-38页 |
| ·V_2O_5膜厚对氢气敏感特性的影响 | 第38-39页 |
| ·不同氢气浓度对V_2O_5/Pd薄膜透过率变化的影响 | 第39-41页 |
| ·不同氢气浓度下V_2O_5/Pd薄膜对氢气敏感的重复性 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第四章 光纤端面V_2O_5/Pd薄膜氢敏特性的研究 | 第43-52页 |
| ·实验部分 | 第43-44页 |
| ·主要实验材料、试剂及仪器 | 第43页 |
| ·光纤端面上沉积V_2O_5/Pd薄膜 | 第43-44页 |
| ·镀膜前的准备 | 第43-44页 |
| ·磁控溅射沉积V_2O_5/Pd薄膜 | 第44页 |
| ·端面反射型传感系统的理论基础与检测装置 | 第44-47页 |
| ·光波在金属表面上的反射与折射 | 第44-45页 |
| ·端面反射型光纤传感系统工作原理 | 第45-46页 |
| ·氢敏实验检测装置 | 第46-47页 |
| ·实验操作步骤 | 第47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·V_2O_5膜厚对通氢气前后反射光强变化的影响 | 第47-48页 |
| ·不同氢气浓度对反射光强变化的影响 | 第48-49页 |
| ·不同催化剂薄膜对氢气敏感特性的影响 | 第49-50页 |
| ·V_2O_5薄膜在光纤端面的氢敏重复性 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第五章 V_2O_5/Pd薄膜的氢气敏感机理研究 | 第52-57页 |
| ·Pd膜的氢敏机理 | 第52-53页 |
| ·V_2O_5膜的氢敏机理 | 第53-54页 |
| ·V_2O_5/Pd薄膜的氢气敏感机理 | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第六章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·主要结论 | 第57-58页 |
| ·课题展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第64页 |
