磁控溅射法制备氮化硅薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第11-16页 |
| ·蒸发法 | 第11-12页 |
| ·溅射法 | 第12-15页 |
| ·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·薄膜的生长与结构 | 第16-21页 |
| ·薄膜的三种生长模式 | 第16-18页 |
| ·薄膜的四种组织形态 | 第18-21页 |
| ·薄膜材料的应用 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第2章 氮化硅薄膜材料的概述 | 第23-34页 |
| ·氮化硅的结构 | 第23-24页 |
| ·氮化硅的性质 | 第24-27页 |
| ·机械性能 | 第24-25页 |
| ·物理性能 | 第25-26页 |
| ·热学性能 | 第26页 |
| ·化学性能 | 第26-27页 |
| ·氮化硅的应用 | 第27-30页 |
| ·微电子领域的应用 | 第27-28页 |
| ·光电子领域的应用 | 第28页 |
| ·量子器件的应用 | 第28页 |
| ·集成电路中的应用 | 第28-29页 |
| ·功能材料的应用 | 第29-30页 |
| ·氮化硅薄膜的制备方法 | 第30-33页 |
| ·直接氮化法 | 第30页 |
| ·化学气相沉积法 | 第30-31页 |
| ·溅射法 | 第31-33页 |
| ·本课题研究的目的与意义 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 实验设计 | 第34-40页 |
| ·实验研究路线 | 第34-35页 |
| ·实验设备 | 第35-36页 |
| ·实验材料 | 第36-37页 |
| ·薄膜的性能研究 | 第37-39页 |
| ·薄膜结构分析 | 第37页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第37页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第37-38页 |
| ·样品组分分析 | 第38页 |
| ·薄膜折射率的测定 | 第38页 |
| ·薄膜透过率及光学带隙的测定 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 氮化硅薄膜的性能研究 | 第40-70页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第40-48页 |
| ·X射线衍射分析 | 第40-41页 |
| ·表面形貌分析 | 第41-42页 |
| ·薄膜成分分析 | 第42-43页 |
| ·沉积速率分析 | 第43-45页 |
| ·光学性能分析 | 第45-48页 |
| ·基底温度对薄膜性能的影响 | 第48-55页 |
| ·X射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·表面形貌分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜成分分析 | 第50-51页 |
| ·沉积速率分析 | 第51-53页 |
| ·光学性能分析 | 第53-55页 |
| ·氮气流量对薄膜性能的影响 | 第55-62页 |
| ·X射线衍射分析 | 第55-56页 |
| ·表面形貌分析 | 第56-57页 |
| ·薄膜成分分析 | 第57页 |
| ·沉积速率分析 | 第57-59页 |
| ·光学性能分析 | 第59-62页 |
| ·沉积时间对薄膜性能的影响 | 第62-69页 |
| ·X射线衍射分析 | 第62-63页 |
| ·表面形貌分析 | 第63-64页 |
| ·薄膜成分分析 | 第64页 |
| ·沉积速率分析 | 第64-66页 |
| ·光学性能分析 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第75页 |
