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黑腔等离子体填充对辐射场性质影响的实验研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第1章 绪论第12-22页
    1.1 激光间接驱动惯性约束聚变简介第12-13页
    1.2 黑腔等离子体基本特征第13-15页
    1.3 黑腔等离子体填充对辐射场性质的影响第15-17页
    1.4 黑腔等离子体填充的抑制方法第17-20页
    1.5 论文主要内容第20页
    参考文献第20-22页
第2章 时变黑腔辐射场导致时变内爆不对称性的研究第22-32页
    2.1 引言第22页
    2.2 实验安排第22-24页
    2.3 实验结果与分析第24-28页
    2.4 小结第28-29页
    参考文献第29-32页
第3章 神光Ⅲ原型束匀滑注入条件下最优黑腔长度的研究第32-54页
    3.1 引言第32-33页
    3.2 理论预估第33-34页
    3.3 实验结果与分析第34-50页
    3.4 讨论与小结第50-53页
    参考文献第53-54页
第4章 真空、衬CH、充气等条件下黑腔等离子体填充的实验研究第54-72页
    4.1 引言第54页
    4.2 神光Ⅱ不同尺寸的真空黑腔等离子体填充实验研究第54-59页
    4.3 神光Ⅱ黑腔内壁衬CH抑制等离子体填充的实验研究第59-62页
    4.4 神光Ⅲ原型真空黑腔中的射流第62-67页
    4.5 神光Ⅲ原型充气黑腔中的流体力学不稳定性和密度壳现象第67-69页
    4.6 小结第69-70页
    参考文献第70-72页
第5章 低密度泡沫金壁改善黑腔辐射场的实验研究第72-86页
    5.1 引言第72页
    5.2 低密度泡沫金壁减弱等离子体填充的实验研究第72-77页
    5.3 低密度泡沫金壁提高再发射率的实验研究第77-84页
    5.4 小结第84页
    参考文献第84-86页
第6章 辐射烧蚀小孔等离子体填充的实验研究第86-97页
    6.1 引言第86页
    6.2 实验排布第86-88页
    6.3 实验结果与分析第88-94页
    6.4 小结第94-95页
    参考文献第95-97页
第7章 总结和展望第97-100页
    7.1 总结第97-98页
    7.2 创新点第98-99页
    7.3 展望第99-100页
附录 高功率激光实验室中产生兆高斯量级强磁场的方法研究第100-118页
    1. 高功率激光实验室中强磁场的应用和产生方法概述第100-101页
    2. 电容-线圈靶产生强磁场的研究第101-106页
    3. 脉冲放电装置产生强磁场的研究第106-116页
    参考文献第116-118页
致谢第118-120页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第120-121页

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