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高电光转换效率半导体激光芯片研究

致谢第4-5页
摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 引言第10-22页
    1.1 半导体激光器的发展与应用第10-18页
        1.1.1 半导体激光器基本原理及发展历程第10-15页
        1.1.2 半导体激光器的特点及应用第15-18页
    1.2 高电光转换效率 808 nm/9xx nm 半导体激光器的研究进展第18-20页
    1.3 本论文的研究意义与工作成果第20-22页
        1.3.1 本论文的研究目的及意义第20-21页
        1.3.2 本论文的研究内容与成果第21-22页
第二章 半导体激光器的制备及特性参数第22-30页
    2.1 半导体激光器的制备技术第22-24页
    2.2 半导体激光器主要光电特性参数第24-29页
        2.2.1 阈值电流第26页
        2.2.2 斜率效率第26-27页
        2.2.3 电光转换效率第27-28页
        2.2.4 光谱、近场与远场第28-29页
    2.3 本章小结第29-30页
第三章 高电光转换效率半导体激光器的理论分析第30-40页
    3.1 半导体激光器高电光转换效率分析研究第30-35页
        3.1.1 半导体激光器能量损耗路径分析第30-31页
        3.1.2 电光转化效率影响因素第31-35页
    3.2 808nm半导体激光器外延结构设计第35-39页
        3.2.1 波导层的结构设计第35-36页
        3.2.2 非对称波导结构内损耗的数值计算第36-39页
    3.3 本章小结第39-40页
第四章 温度对808nm半导体激光器效率的影响机制研究第40-56页
    4.1 实验设计:808nm半导体激光器温度-效率实验第40-41页
    4.2 实验结果理论分析第41-48页
        4.2.1 实验结果第41-42页
        4.2.2 温度对光电特性参数的影响第42-45页
        4.2.3 能量损耗路径占比贡献随温度的变化第45-48页
    4.3 器件优化结果第48-55页
        4.3.1 内量子效率和内损耗的测试第48-49页
        4.3.2 808nm半导体激光器优化结果第49-55页
    4.4 本章小结第55-56页
第五章 976nm高电光转换效率半导体激光器第56-60页
    5.1 976 nm半导体激光器不同器件结构特性对比第56-57页
    5.2 不同温度条件下976nm半导体激光器光电特性对比第57-60页
第六章 总结与展望第60-62页
    6.1 总结第60页
    6.2 展望第60-62页
参考文献第62-66页
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果第66页

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