| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第16-26页 |
| 1.1 引言 | 第16页 |
| 1.2 导电聚合物概述 | 第16-21页 |
| 1.2.1 导电聚合物的定义和特点 | 第16-17页 |
| 1.2.2 导电聚合物的分类和结构特性 | 第17页 |
| 1.2.3 导电聚合物的导电机理 | 第17-18页 |
| 1.2.4 导电聚合物的掺杂及类型 | 第18-20页 |
| 1.2.5 导电聚合物的制备 | 第20页 |
| 1.2.6 导电聚合物的应用 | 第20-21页 |
| 1.3 石墨烯的概述 | 第21-24页 |
| 1.3.1 石墨烯的结构和性质 | 第21-22页 |
| 1.3.2 石墨烯的制备 | 第22-23页 |
| 1.3.3 石墨烯的应用 | 第23-24页 |
| 1.4 论文的研究背景和内容 | 第24-26页 |
| 1.4.1 论文的研究背景与思路 | 第24-25页 |
| 1.4.2 论文的主要内容 | 第25-26页 |
| 第2章 还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)复合物的电化学合成及其电化学性质 | 第26-45页 |
| 2.1 前言 | 第26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-29页 |
| 2.2.1 实验原料与仪器 | 第26-27页 |
| 2.2.2 氧化石墨烯的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.3 电化学法制备还原氧化石墨烯修饰电极 | 第28页 |
| 2.2.4 还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)修饰电极的制备 | 第28页 |
| 2.2.5 样品形貌与结构表征 | 第28-29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-44页 |
| 2.3.1 还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)修饰电极制备的循环伏安图 | 第29-31页 |
| 2.3.2 还原氧化石墨烯的紫外-可见吸收光谱分析 | 第31页 |
| 2.3.3 还原氧化石墨烯的拉曼光谱分析 | 第31-32页 |
| 2.3.4 还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)的X射线光电子能谱分析 | 第32-34页 |
| 2.3.5 样品的傅里叶变换红外光谱分析 | 第34-36页 |
| 2.3.6 样品的扫描电镜分析 | 第36-38页 |
| 2.3.7 不同电极的电化学阻抗谱 | 第38-39页 |
| 2.3.8 还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)修饰电极的电化学性质 | 第39-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 基于还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)修饰电极对对苯二酚的检测.. | 第45-56页 |
| 3.1 前言 | 第45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-54页 |
| 3.3.1 还原氧化石墨烯/聚(N-甲基硫堇)修饰电极对对苯二酚的电催化效应 | 第46-47页 |
| 3.3.2 扫描速率对对苯二酚峰电流的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.3 电解质对对苯二酚的峰电流的影响 | 第48-50页 |
| 3.3.4 合成圈数对对苯二酚峰电流的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.5 对苯二酚的测定线性范围 | 第51-53页 |
| 3.3.6 抗干扰性能研究 | 第53-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 还原氧化石墨烯/聚天青B复合物的同步电合成及其电化学性质 | 第56-67页 |
| 4.1 前言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验部分 | 第57-58页 |
| 4.2.1 实验原料与仪器 | 第57-58页 |
| 4.2.2 氧化石墨烯的制备 | 第58页 |
| 4.2.3 还原氧化石墨烯/聚天青B修饰电极的制备 | 第58页 |
| 4.2.4 样品形貌与结构表征 | 第58页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第58-66页 |
| 4.3.1 还原氧化石墨烯/聚天青B同步电合成循环伏安图 | 第58-59页 |
| 4.3.2 样品的扫描电镜分析 | 第59-60页 |
| 4.3.3 样品的傅里叶变化红外光谱分析 | 第60-62页 |
| 4.3.4 还原氧化石墨烯/聚天青B的X射线光电子能谱分析 | 第62-63页 |
| 4.3.5 还原氧化石墨烯/聚天青B的电化学性质 | 第63-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 基于同时电合成的还原氧化石墨烯/聚天青B复合材料的无酶抗坏血酸传感器 | 第67-77页 |
| 5.1 前言 | 第67页 |
| 5.2 实验部分 | 第67页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第67-75页 |
| 5.3.1 还原氧化石墨烯/聚天青B修饰电极对抗坏血酸的电催化氧化 | 第67-71页 |
| 5.3.2 操作电位对还原氧化石墨烯/聚天青B修饰电极的影响 | 第71页 |
| 5.3.3 温度对还原氧化石墨烯/聚天青B修饰电极的影响 | 第71-72页 |
| 5.3.4 pH对还原氧化石墨烯/聚天青B修饰电极传感器的影响 | 第72-73页 |
| 5.3.5 抗坏血酸浓度对还原氧化石墨烯/聚天青B修饰电极的影响 | 第73-75页 |
| 5.3.6 干扰和稳定性测试 | 第75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-77页 |
| 结论与展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 攻读学位期间发表的专利和论文 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 大摘要 | 第87-91页 |
