| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 半导体光催化制氢 | 第11-14页 |
| 1.1.1 半导体光催化产氢的原理 | 第11-12页 |
| 1.1.2 光催化制氢体系 | 第12-14页 |
| 1.2 光催化剂的分类及研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.1 TiO_2光催化剂 | 第14页 |
| 1.2.2 硫化物光催化剂 | 第14-15页 |
| 1.2.3 其他光催化剂 | 第15-16页 |
| 1.3 提高光催化产氢的途径 | 第16-17页 |
| 1.3.1 助催化剂的负载 | 第16页 |
| 1.3.2 半导体复合 | 第16-17页 |
| 1.4 助催化剂的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.4.1 产氢助催化剂 | 第17页 |
| 1.4.2 产氧助催化剂 | 第17页 |
| 1.4.3 双助催化剂 | 第17-18页 |
| 1.4.4 复合助催化剂 | 第18-19页 |
| 1.5 课题研究意义、目的与内容 | 第19-21页 |
| 1.5.1 本课题的研究目的和意义 | 第19页 |
| 1.5.2 本课题的研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第21-25页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第21页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 催化剂表征 | 第22-23页 |
| 2.2.1 X-射线衍射(XRD) | 第22页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第22页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第22页 |
| 2.2.4 紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第22-23页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第23页 |
| 2.2.6 荧光光谱(PL) | 第23页 |
| 2.3 光催化性能评价 | 第23-24页 |
| 2.4 光电化学性能测试 | 第24-25页 |
| 第三章 Mo_2N/Ge_3N_4的制备和表征及光催化分解水研究 | 第25-35页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的制备 | 第25-26页 |
| 3.3 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的表征 | 第26-31页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第26-27页 |
| 3.3.2 TEM分析 | 第27-28页 |
| 3.3.3 紫外可见漫反射光谱分析 | 第28-29页 |
| 3.3.4 XPS分析 | 第29-30页 |
| 3.3.6 荧光光谱分析 | 第30-31页 |
| 3.4 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的光催化性能评价 | 第31-32页 |
| 3.5 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的光电化学性能测试 | 第32-34页 |
| 3.5.1 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的光电流测试 | 第32页 |
| 3.5.2 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的循环伏安曲线测试 | 第32-33页 |
| 3.5.3 Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的线性伏安扫描曲线测试 | 第33-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 CoO_x/Ge_3N_4的制备表征及光催化分解水研究 | 第35-43页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 CoO_x/Ge_3N_4复合光催化剂的制备 | 第35页 |
| 4.3 CoO_x/Ge_3N_4复合光催化剂的表征 | 第35-39页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第35-36页 |
| 4.3.2 TEM分析 | 第36-37页 |
| 4.3.3 紫外可见漫反射光谱分析 | 第37页 |
| 4.3.4 荧光光谱分析 | 第37-38页 |
| 4.3.5 XPS分析 | 第38-39页 |
| 4.4 CoO_x/Ge_3N_4复合催化剂的光催化性能评价 | 第39页 |
| 4.5 CoO_x/Ge_3N_4复合催化剂的光电化学性能研究 | 第39-41页 |
| 4.5.1 光电流测试 | 第39-40页 |
| 4.5.2 循环伏安曲线测试 | 第40-41页 |
| 4.5.3 线性伏安扫描曲线测试 | 第41页 |
| 4.6 本章小结 | 第41-43页 |
| 第五章 CoO_x-Mo_2N/Ge_3N_4的制备表征及光催化性能研究 | 第43-57页 |
| 5.1 引言 | 第43页 |
| 5.2 CoO_x-Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的制备 | 第43-44页 |
| 5.3 CoO_x-Mo_2N/Ge_3N_4复合光催化剂的表征 | 第44-49页 |
| 5.3.1 XRD分析 | 第44页 |
| 5.3.2 TEM分析 | 第44-46页 |
| 5.3.3 紫外可见漫反射光谱分析 | 第46-47页 |
| 5.3.4 荧光光谱分析 | 第47页 |
| 5.3.5 XPS分析 | 第47-49页 |
| 5.4 CoO_x-Mo_2N/Ge_3N_4的光催化性能评价 | 第49-52页 |
| 5.4.1 牺牲剂对光催化分解水的影响 | 第50-51页 |
| 5.4.2 pH值对光催化分解水的影响 | 第51-52页 |
| 5.5 CoO_x-Mo_2N/Ge_3N_4的光电化学性能研究及光催化反应机理研究 | 第52-55页 |
| 5.5.1 光电流曲线测试 | 第52-53页 |
| 5.5.2 循环伏安曲线测试 | 第53页 |
| 5.5.3 线性伏安扫描曲线测试 | 第53-54页 |
| 5.5.4 CoO_x-Mo_2N/Ge_3N_4的光催化分解水机理研究 | 第54-55页 |
| 5.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第六章 氨气氛围中Mo_2N催化制备微米锗 | 第57-66页 |
| 6.1 引言 | 第57页 |
| 6.2 单质锗的制备 | 第57-59页 |
| 6.3 单质锗的表征 | 第59-65页 |
| 6.3.1 XRD分析 | 第59-62页 |
| 6.3.2 SEM分析 | 第62-64页 |
| 6.3.3 TEM分析 | 第64页 |
| 6.3.4 紫外可见漫反射光谱分析 | 第64-65页 |
| 6.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第七章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 7.1 总结 | 第66页 |
| 7.2 展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 个人简介 | 第83页 |
