| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 选题的背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外相关技术的发展现状 | 第12-18页 |
| 1.2.1 超精研磨技术未来发展趋势 | 第13-16页 |
| 1.2.2 对超精研讨论实现的条件 | 第16页 |
| 1.2.3 对于绗磨实现的讨论 | 第16页 |
| 1.2.4 规则表面制造研究的总体现状 | 第16-18页 |
| 1.2.5 超硬珩磨油石制造现状的研究 | 第18页 |
| 1.3 课题的来源及意义 | 第18-19页 |
| 1.3.1 课题的来源 | 第19页 |
| 1.3.2 课题的研究意义 | 第19页 |
| 1.4 本课题研究内容 | 第19-20页 |
| 1.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 第2章 油石短程珩磨平台的运动学研究 | 第21-32页 |
| 2.1 工程化油石的磨粒有序化排布模型的建立 | 第21-23页 |
| 2.1.1 叶序理论与磨粒的叶序排布模型 | 第21-23页 |
| 2.1.2 磨粒的阵列排布和错位排布模型 | 第23页 |
| 2.1.3 磨粒有序排布短程珩磨平台表面的轨迹方程建立 | 第23页 |
| 2.2 有序排布磨粒油石短程珩磨平台表面的运动学条件 | 第23-27页 |
| 2.2.1 短程珩磨平台表面的珩磨的网纹角 | 第23-24页 |
| 2.2.2 短程珩磨平台表面的单磨粒切削深度 | 第24页 |
| 2.2.3 实现一致平台表面的短程珩磨运动学条件 | 第24-27页 |
| 2.3 有序排布磨粒油石短程珩磨一致化平台表面的运动学仿真 | 第27-31页 |
| 2.3.1 仿真的基本条件与策略 | 第27-28页 |
| 2.3.2 仿真结果与分析 | 第28-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 工程化油石的设计与制备 | 第32-46页 |
| 3.1 有序化排布油石短程珩磨掩膜的制备 | 第32-37页 |
| 3.1.1 掩膜的功能及性能要求 | 第32-33页 |
| 3.1.2 叶序排布掩膜选取 | 第33-34页 |
| 3.1.3 有序化排布掩膜的制备 | 第34-37页 |
| 3.2 磨料和电镀液的选择 | 第37-41页 |
| 3.2.1 电镀原理 | 第37-38页 |
| 3.2.2 磨料的选择 | 第38-39页 |
| 3.2.3 电镀液因素对电镀结果产生影响的分析 | 第39-41页 |
| 3.3 有序化排布油石的制造工艺 | 第41-46页 |
| 3.3.1 磨粒的筛选与等高性处理 | 第42-44页 |
| 3.3.2 电镀过程所使用的设备介绍 | 第44-46页 |
| 第4章 一致化平台表面的短程珩磨实验研究 | 第46-59页 |
| 4.1 实验设备与总体条件 | 第46-48页 |
| 4.1.1 实验系统的构成 | 第46-48页 |
| 4.1.3 实验方案与条件 | 第48页 |
| 4.2 致化平台表面短程珩磨实验结果与分析 | 第48-56页 |
| 4.2.1 叶序排布磨粒油石短程珩磨 | 第48-51页 |
| 4.2.2 阵列排布磨粒油石短程珩磨 | 第51-56页 |
| 4.3 致化平台表面形貌短程珩磨缺陷分析 | 第56页 |
| 4.4 一致化平台表面的PVA油石短程珩磨后处理 | 第56-57页 |
| 4.4.1 短程珩磨用量对形貌变化影响 | 第56-57页 |
| 4.4.2 短程珩磨用量对缺陷去除的的影响 | 第57页 |
| 4.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
