| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 硅量子点概述 | 第12-13页 |
| 1.3 硅量子点的合成 | 第13-18页 |
| 1.3.1 激光烧蚀法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 机械球磨法 | 第14-15页 |
| 1.3.3 离子注入法 | 第15-16页 |
| 1.3.4 电化学腐蚀法 | 第16页 |
| 1.3.5 超临界流体法 | 第16-17页 |
| 1.3.6 液相还原法 | 第17-18页 |
| 1.4 硅量子点的修饰 | 第18-20页 |
| 1.4.1 氢封端硅量子点的修饰 | 第18-19页 |
| 1.4.2 氯封端硅量子点的修饰 | 第19-20页 |
| 1.5 硅量子点的应用 | 第20-23页 |
| 1.5.1 在分析检测中的应用 | 第20页 |
| 1.5.2 在生物标记中的应用 | 第20-21页 |
| 1.5.3 在光催化剂中的应用 | 第21-22页 |
| 1.5.4 在发光二极管中的应用 | 第22-23页 |
| 1.5.5 在太阳能电池中的应用 | 第23页 |
| 1.6 本论文的主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验试剂与仪器 | 第25-28页 |
| 2.1 实验试剂 | 第25-26页 |
| 2.2 实验仪器 | 第26-27页 |
| 2.3 表征仪器 | 第27-28页 |
| 第3章 绿色荧光硅量子点(GF-SiQDs)的合成、表征及修饰 | 第28-40页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 GF-SiQDs的合成 | 第28-31页 |
| 3.2.1 合成方法 | 第28-29页 |
| 3.2.2 合成条件优化 | 第29-31页 |
| 3.3 GF-SiQDs的表征 | 第31-35页 |
| 3.3.1 吸收光谱 | 第31-32页 |
| 3.3.2 荧光光谱 | 第32-33页 |
| 3.3.3 红外光谱 | 第33页 |
| 3.3.4 透射电镜照片 | 第33-34页 |
| 3.3.5 X-射线衍射谱 | 第34页 |
| 3.3.6 耐盐稳定性 | 第34-35页 |
| 3.4 酸碱环境对GF-SiQDs光学性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.4.1 碱性环境 | 第35页 |
| 3.4.2 酸性环境 | 第35-37页 |
| 3.5 二氧化硅对GF-SiQDs的表面修饰 | 第37-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 蓝色荧光硅量子点(BF-SiQDs)的合成、表征及应用 | 第40-59页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 BF-SiQDs的合成 | 第40-44页 |
| 4.2.1 合成方法 | 第40-41页 |
| 4.2.2 合成条件优化 | 第41-44页 |
| 4.3 BF-SiQDs的表征 | 第44-50页 |
| 4.3.1 吸收光谱 | 第44-45页 |
| 4.3.2 荧光光谱 | 第45-46页 |
| 4.3.3 红外光谱 | 第46页 |
| 4.3.4 透射电镜照片 | 第46-47页 |
| 4.3.5 X-射线衍射谱 | 第47页 |
| 4.3.6 光稳定性 | 第47-48页 |
| 4.3.7 耐盐稳定性 | 第48页 |
| 4.3.8 荧光寿命 | 第48-49页 |
| 4.3.9 量子产率 | 第49-50页 |
| 4.4 酸碱环境对BF-SiQDs光学性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.4.1 碱性环境 | 第50-51页 |
| 4.4.2 酸性环境 | 第51-52页 |
| 4.5 BF-SiQDs对铜离子的检测 | 第52-54页 |
| 4.5.1 选择性试验 | 第52-53页 |
| 4.5.2 铜(Ⅱ)离子的测定 | 第53-54页 |
| 4.5.3 荧光猝灭作用机理 | 第54页 |
| 4.6 BF-SiQDs对偶氮化合物的检测 | 第54-58页 |
| 4.6.1 选择性试验 | 第54-55页 |
| 4.6.2 偶氮苯的测定 | 第55-56页 |
| 4.6.3 4 -(苯偶氮基)苯甲酸的测定 | 第56-58页 |
| 4.6.4 荧光猝灭作用机理 | 第58页 |
| 4.7 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 总结与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |