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硅纳米线阵列物性研究及其在表面拉曼增强中的应用

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-38页
    1.1 硅纳米线的概述第11-12页
    1.2 硅纳米线的物理化学性质第12-13页
        1.2.1 硅纳米线的光电性质第12-13页
        1.2.2 硅纳米线的表面态性质第13页
    1.3 金属辅助催化腐蚀法制备硅纳米线阵列第13-20页
        1.3.1 金属辅助催化腐蚀法反应机理第13-16页
        1.3.2 金属辅助催化腐蚀中腐蚀方向的选择第16-20页
    1.4 硅纳米线阵列的应用第20-23页
        1.4.1 太阳能电池第20-21页
        1.4.2 表面拉曼增强模板材料第21-23页
    1.5 表面增强拉曼光谱第23-29页
        1.5.1 表面增强拉曼光谱历史和发展第23-24页
        1.5.2 表面增强拉曼光谱的增强机制第24-29页
    1.6 SERS模板及基底制备的最新进展第29-37页
        1.6.1 最新报道新颖的SERS模板第29-34页
        1.6.2 贵金属异质结构的SERS基底材料第34-37页
    1.7 本文主要研究内容和选题思路第37-38页
第2章 硅纳米线阵列制备及其物性研究第38-61页
    2.1 前言第38-39页
    2.2 实验部分第39-41页
        2.2.1 实验试剂和测试仪器信息第39页
        2.2.2 硅纳米线阵列的制备第39-41页
    2.3 硅纳米线阵列的结构及物性研究第41-51页
        2.3.1 硅纳米线阵列的形貌表征第41-43页
        2.3.2 硅纳米线阵列的结构分析第43-44页
        2.3.3 硅纳米线阵列的表面态研究第44-49页
        2.3.4 硅纳米线阵列的光学性质第49-51页
    2.4 硅纳米线表面缺陷形成机理第51-55页
    2.5 硅纳米线阵列表面铜改性第55-60页
    2.6 本章小结第60-61页
第3章 湿化学腐蚀中腐蚀方向的控制及机理研究第61-80页
    3.1 前言第61页
    3.2 实验部分第61-63页
        3.2.1 实验试剂和测试仪器信息第61-62页
        3.2.2 硅纳米阵列的制备第62-63页
    3.3 湿化学腐蚀不同基底的腐蚀方向控制及腐蚀机理研究第63-79页
        3.3.1 Si(111)基底腐蚀方向的选择控制第63-68页
        3.3.2 Si(111)基底腐蚀方向选择的机理研究第68-73页
        3.3.3 Si(100)基底腐蚀方向的选择控制及机理研究第73-74页
        3.3.4 Si(110)基底腐蚀方向的选择控制及机理研究第74-79页
    3.4 本章小结第79-80页
第4章 基于硅纳米线阵列的金修饰银纳米颗粒的制备和SERS研究第80-97页
    4.1 前言第80-82页
    4.2 实验部分第82-84页
        4.2.1 实验试剂和测试仪器信息第82页
        4.2.2 硅纳米阵列的制备第82-84页
    4.3 实验结果分析第84-96页
    4.4 本章小结第96-97页
第5章 总结与展望第97-99页
参考文献第99-112页
攻读博士学位期间发表的论文第112-113页
致谢第113页

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