摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第11-38页 |
1.1 硅纳米线的概述 | 第11-12页 |
1.2 硅纳米线的物理化学性质 | 第12-13页 |
1.2.1 硅纳米线的光电性质 | 第12-13页 |
1.2.2 硅纳米线的表面态性质 | 第13页 |
1.3 金属辅助催化腐蚀法制备硅纳米线阵列 | 第13-20页 |
1.3.1 金属辅助催化腐蚀法反应机理 | 第13-16页 |
1.3.2 金属辅助催化腐蚀中腐蚀方向的选择 | 第16-20页 |
1.4 硅纳米线阵列的应用 | 第20-23页 |
1.4.1 太阳能电池 | 第20-21页 |
1.4.2 表面拉曼增强模板材料 | 第21-23页 |
1.5 表面增强拉曼光谱 | 第23-29页 |
1.5.1 表面增强拉曼光谱历史和发展 | 第23-24页 |
1.5.2 表面增强拉曼光谱的增强机制 | 第24-29页 |
1.6 SERS模板及基底制备的最新进展 | 第29-37页 |
1.6.1 最新报道新颖的SERS模板 | 第29-34页 |
1.6.2 贵金属异质结构的SERS基底材料 | 第34-37页 |
1.7 本文主要研究内容和选题思路 | 第37-38页 |
第2章 硅纳米线阵列制备及其物性研究 | 第38-61页 |
2.1 前言 | 第38-39页 |
2.2 实验部分 | 第39-41页 |
2.2.1 实验试剂和测试仪器信息 | 第39页 |
2.2.2 硅纳米线阵列的制备 | 第39-41页 |
2.3 硅纳米线阵列的结构及物性研究 | 第41-51页 |
2.3.1 硅纳米线阵列的形貌表征 | 第41-43页 |
2.3.2 硅纳米线阵列的结构分析 | 第43-44页 |
2.3.3 硅纳米线阵列的表面态研究 | 第44-49页 |
2.3.4 硅纳米线阵列的光学性质 | 第49-51页 |
2.4 硅纳米线表面缺陷形成机理 | 第51-55页 |
2.5 硅纳米线阵列表面铜改性 | 第55-60页 |
2.6 本章小结 | 第60-61页 |
第3章 湿化学腐蚀中腐蚀方向的控制及机理研究 | 第61-80页 |
3.1 前言 | 第61页 |
3.2 实验部分 | 第61-63页 |
3.2.1 实验试剂和测试仪器信息 | 第61-62页 |
3.2.2 硅纳米阵列的制备 | 第62-63页 |
3.3 湿化学腐蚀不同基底的腐蚀方向控制及腐蚀机理研究 | 第63-79页 |
3.3.1 Si(111)基底腐蚀方向的选择控制 | 第63-68页 |
3.3.2 Si(111)基底腐蚀方向选择的机理研究 | 第68-73页 |
3.3.3 Si(100)基底腐蚀方向的选择控制及机理研究 | 第73-74页 |
3.3.4 Si(110)基底腐蚀方向的选择控制及机理研究 | 第74-79页 |
3.4 本章小结 | 第79-80页 |
第4章 基于硅纳米线阵列的金修饰银纳米颗粒的制备和SERS研究 | 第80-97页 |
4.1 前言 | 第80-82页 |
4.2 实验部分 | 第82-84页 |
4.2.1 实验试剂和测试仪器信息 | 第82页 |
4.2.2 硅纳米阵列的制备 | 第82-84页 |
4.3 实验结果分析 | 第84-96页 |
4.4 本章小结 | 第96-97页 |
第5章 总结与展望 | 第97-99页 |
参考文献 | 第99-112页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第112-113页 |
致谢 | 第113页 |