| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 纳米软磁薄膜 | 第13-17页 |
| 1.2.1 纳米磁性薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2.2 软磁材料的发展历程 | 第14-16页 |
| 1.2.3 高频软磁薄膜的发展趋势 | 第16-17页 |
| 1.3 Fe-N材料概述 | 第17-24页 |
| 1.3.1 Fe-N材料的发展历程及研究现状 | 第18-24页 |
| 1.3.2 Fe-N薄膜高频软磁特性的研究 | 第24页 |
| 1.4 本论文的研究动机和主要内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第二章 理论基础 | 第31-52页 |
| 2.1 随机各向异性模型(软磁性机理) | 第31-34页 |
| 2.2 磁各向异性理论 | 第34-40页 |
| 2.2.1 磁晶各向异性 | 第35-36页 |
| 2.2.2 磁场感生各向异性 | 第36-37页 |
| 2.2.3 应力各向异性 | 第37-38页 |
| 2.2.4 交换各向异性 | 第38页 |
| 2.2.5 表面和界面磁各向异性 | 第38-39页 |
| 2.2.6 薄膜中的形状各向异性 | 第39-40页 |
| 2.3 斜溅射薄膜的各向异性研究 | 第40-41页 |
| 2.4 软磁薄膜的动态磁化机制 | 第41-50页 |
| 2.4.1 软磁材料的静态磁性 | 第41-43页 |
| 2.4.2 软磁材料的动态磁化参数 | 第43-46页 |
| 2.4.3 软磁薄膜的微波磁导率理论 | 第46-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第三章 样品的制备及测量 | 第52-68页 |
| 3.1 薄膜样品的制备 | 第52-57页 |
| 3.1.1 磁控溅射原理 | 第52-55页 |
| 3.1.2 薄膜生长过程 | 第55页 |
| 3.1.3 磁控溅射设备 | 第55-57页 |
| 3.2 薄膜样品的测试 | 第57-67页 |
| 3.2.1 X射线衍射(XRD) | 第57-58页 |
| 3.2.2 高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和选区电子衍射(SEAD) | 第58-59页 |
| 3.2.3 振动样品磁强计(VSM) | 第59-60页 |
| 3.2.4 台阶仪 | 第60页 |
| 3.2.5 四探针法 | 第60-61页 |
| 3.2.6 高频磁性的测量 | 第61-63页 |
| 3.2.7 电子自旋共振谱仪(ESR) | 第63-65页 |
| 3.2.8 扫描电子显微镜(SEM) | 第65页 |
| 3.2.9 磁力显微镜(MFM) | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第四章 制备工艺对Fe-N薄膜结构与磁性的影响 | 第68-80页 |
| 4.1 N_2流量比对Fe-N薄膜结构和磁性的影响 | 第68-73页 |
| 4.1.1 样品的制备 | 第68页 |
| 4.1.2 Fe-N薄膜X射线衍射(XRD)分析 | 第68-69页 |
| 4.1.3 Fe-N薄膜磁特性的分析 | 第69-73页 |
| 4.2 溅射气压对Fe-N薄膜结构和磁性的影响 | 第73-76页 |
| 4.2.1 Fe-N薄膜X射线衍射(XRD)分析 | 第73-74页 |
| 4.2.2 Fe-N薄膜磁特性的分析 | 第74-76页 |
| 4.3 不同种子层对薄膜结构和磁性的影响 | 第76-78页 |
| 4.3.1 Fe-N薄膜X射线衍射(XRD)分析 | 第76-77页 |
| 4.3.2 Fe-N薄膜磁特性分析 | 第77-78页 |
| 4.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-80页 |
| 第五章 多晶γ'-Fe_4N软磁特性的研究 | 第80-93页 |
| 5.1 引言 | 第80页 |
| 5.2 用外加诱导磁场的方法诱导γ'-Fe_4N薄膜的面内各向异性 | 第80-87页 |
| 5.2.1 外场诱导磁场对样品结构与磁性的影响 | 第81-82页 |
| 5.2.2 样品厚度对样品微结构的影响 | 第82-84页 |
| 5.2.3 样品厚度对薄膜磁特性的影响 | 第84-87页 |
| 5.3 用倾斜溅射的方法诱导γ'-Fe_4N薄膜的面内各向异性 | 第87-90页 |
| 5.3.1 不同沉积时间Fe-N薄膜XRD分析 | 第88-89页 |
| 5.3.2 不同沉积时间Fe-N薄膜磁性 | 第89-90页 |
| 5.4 本章小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-93页 |
| 第六章 不同N_2流量比对常温下制备Fe-N薄膜结构与磁性的影响 | 第93-107页 |
| 6.1 引言 | 第93页 |
| 6.2 样品的制备 | 第93-94页 |
| 6.3 N_2流量比对Fe-N薄膜微结构的影响 | 第94-96页 |
| 6.4 N_2流量比对Fe-N薄膜磁性能的影响 | 第96-98页 |
| 6.5 对3%≤F_N≤6%具有面内单轴各向异性的非晶纳米晶Fe-N薄膜的研究 | 第98-103页 |
| 6.5.1 对3%≤F_N≤6%非晶纳米晶Fe-N薄膜的高频磁特性的研究 | 第99-100页 |
| 6.5.2 利用铁磁共振的方法系统研究3%≤F_N≤6%Fe-N薄膜的阻尼因子 | 第100-103页 |
| 6.6 本章小结 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-107页 |
| 第七章 斜溅射对纳米晶Fe-N薄膜磁各向异性的调控 | 第107-115页 |
| 7.1 引言 | 第107页 |
| 7.2 样品的制备 | 第107-108页 |
| 7.3 斜溅射纳米晶Fe-N薄膜微结构的研究 | 第108-110页 |
| 7.4 斜溅射角度及溅射时间对纳米晶Fe-N薄膜磁性能的影响 | 第110-112页 |
| 7.4.1 纳米晶Fe-N薄膜磁性的研究 | 第110-111页 |
| 7.4.2 纳米晶Fe-N薄膜磁各向异性的调控 | 第111-112页 |
| 7.5 本章小结 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-115页 |
| 第八章 倾斜溅射Cu种子层对Permalloy薄膜磁性能的影响 | 第115-128页 |
| 8.1 引言 | 第115页 |
| 8.2 样品的制备 | 第115-116页 |
| 8.3 不同厚度斜溅射Cu种子层对50 nm坡莫合金磁特性的影响 | 第116-120页 |
| 8.3.1 双层薄膜Cu(t nm)/Permalloy(50 nm)的静态磁性 | 第116-117页 |
| 8.3.2 双层薄膜Cu(t nm)/Permalloy(50 nm)的高频磁性 | 第117-120页 |
| 8.4 斜溅射10nmCu种子层对不同厚度Permalloy合金磁特性的影响 | 第120-125页 |
| 8.4.1 低于临界厚度时双层膜Cu(10 nm)/Permalloy(d nm)的磁特性 | 第120-122页 |
| 8.4.2 高于临界厚度时双层膜Cu(10 nm)/Permalloy(d nm)的磁特性 | 第122-125页 |
| 8.5 本章小结 | 第125-126页 |
| 参考文献 | 第126-128页 |
| 第九章 总结 | 第128-131页 |
| 在学期间的研究成果 | 第131-132页 |
| 致谢 | 第132页 |
