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射频反应磁控溅射制备高频用Fe-N薄膜结构与磁性的研究

中文摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第一章 绪论第13-31页
    1.1 引言第13页
    1.2 纳米软磁薄膜第13-17页
        1.2.1 纳米磁性薄膜第13-14页
        1.2.2 软磁材料的发展历程第14-16页
        1.2.3 高频软磁薄膜的发展趋势第16-17页
    1.3 Fe-N材料概述第17-24页
        1.3.1 Fe-N材料的发展历程及研究现状第18-24页
        1.3.2 Fe-N薄膜高频软磁特性的研究第24页
    1.4 本论文的研究动机和主要内容第24-26页
    参考文献第26-31页
第二章 理论基础第31-52页
    2.1 随机各向异性模型(软磁性机理)第31-34页
    2.2 磁各向异性理论第34-40页
        2.2.1 磁晶各向异性第35-36页
        2.2.2 磁场感生各向异性第36-37页
        2.2.3 应力各向异性第37-38页
        2.2.4 交换各向异性第38页
        2.2.5 表面和界面磁各向异性第38-39页
        2.2.6 薄膜中的形状各向异性第39-40页
    2.3 斜溅射薄膜的各向异性研究第40-41页
    2.4 软磁薄膜的动态磁化机制第41-50页
        2.4.1 软磁材料的静态磁性第41-43页
        2.4.2 软磁材料的动态磁化参数第43-46页
        2.4.3 软磁薄膜的微波磁导率理论第46-50页
    参考文献第50-52页
第三章 样品的制备及测量第52-68页
    3.1 薄膜样品的制备第52-57页
        3.1.1 磁控溅射原理第52-55页
        3.1.2 薄膜生长过程第55页
        3.1.3 磁控溅射设备第55-57页
    3.2 薄膜样品的测试第57-67页
        3.2.1 X射线衍射(XRD)第57-58页
        3.2.2 高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和选区电子衍射(SEAD)第58-59页
        3.2.3 振动样品磁强计(VSM)第59-60页
        3.2.4 台阶仪第60页
        3.2.5 四探针法第60-61页
        3.2.6 高频磁性的测量第61-63页
        3.2.7 电子自旋共振谱仪(ESR)第63-65页
        3.2.8 扫描电子显微镜(SEM)第65页
        3.2.9 磁力显微镜(MFM)第65-67页
    参考文献第67-68页
第四章 制备工艺对Fe-N薄膜结构与磁性的影响第68-80页
    4.1 N_2流量比对Fe-N薄膜结构和磁性的影响第68-73页
        4.1.1 样品的制备第68页
        4.1.2 Fe-N薄膜X射线衍射(XRD)分析第68-69页
        4.1.3 Fe-N薄膜磁特性的分析第69-73页
    4.2 溅射气压对Fe-N薄膜结构和磁性的影响第73-76页
        4.2.1 Fe-N薄膜X射线衍射(XRD)分析第73-74页
        4.2.2 Fe-N薄膜磁特性的分析第74-76页
    4.3 不同种子层对薄膜结构和磁性的影响第76-78页
        4.3.1 Fe-N薄膜X射线衍射(XRD)分析第76-77页
        4.3.2 Fe-N薄膜磁特性分析第77-78页
    4.4 本章小结第78-79页
    参考文献第79-80页
第五章 多晶γ'-Fe_4N软磁特性的研究第80-93页
    5.1 引言第80页
    5.2 用外加诱导磁场的方法诱导γ'-Fe_4N薄膜的面内各向异性第80-87页
        5.2.1 外场诱导磁场对样品结构与磁性的影响第81-82页
        5.2.2 样品厚度对样品微结构的影响第82-84页
        5.2.3 样品厚度对薄膜磁特性的影响第84-87页
    5.3 用倾斜溅射的方法诱导γ'-Fe_4N薄膜的面内各向异性第87-90页
        5.3.1 不同沉积时间Fe-N薄膜XRD分析第88-89页
        5.3.2 不同沉积时间Fe-N薄膜磁性第89-90页
    5.4 本章小结第90-91页
    参考文献第91-93页
第六章 不同N_2流量比对常温下制备Fe-N薄膜结构与磁性的影响第93-107页
    6.1 引言第93页
    6.2 样品的制备第93-94页
    6.3 N_2流量比对Fe-N薄膜微结构的影响第94-96页
    6.4 N_2流量比对Fe-N薄膜磁性能的影响第96-98页
    6.5 对3%≤F_N≤6%具有面内单轴各向异性的非晶纳米晶Fe-N薄膜的研究第98-103页
        6.5.1 对3%≤F_N≤6%非晶纳米晶Fe-N薄膜的高频磁特性的研究第99-100页
        6.5.2 利用铁磁共振的方法系统研究3%≤F_N≤6%Fe-N薄膜的阻尼因子第100-103页
    6.6 本章小结第103-105页
    参考文献第105-107页
第七章 斜溅射对纳米晶Fe-N薄膜磁各向异性的调控第107-115页
    7.1 引言第107页
    7.2 样品的制备第107-108页
    7.3 斜溅射纳米晶Fe-N薄膜微结构的研究第108-110页
    7.4 斜溅射角度及溅射时间对纳米晶Fe-N薄膜磁性能的影响第110-112页
        7.4.1 纳米晶Fe-N薄膜磁性的研究第110-111页
        7.4.2 纳米晶Fe-N薄膜磁各向异性的调控第111-112页
    7.5 本章小结第112-114页
    参考文献第114-115页
第八章 倾斜溅射Cu种子层对Permalloy薄膜磁性能的影响第115-128页
    8.1 引言第115页
    8.2 样品的制备第115-116页
    8.3 不同厚度斜溅射Cu种子层对50 nm坡莫合金磁特性的影响第116-120页
        8.3.1 双层薄膜Cu(t nm)/Permalloy(50 nm)的静态磁性第116-117页
        8.3.2 双层薄膜Cu(t nm)/Permalloy(50 nm)的高频磁性第117-120页
    8.4 斜溅射10nmCu种子层对不同厚度Permalloy合金磁特性的影响第120-125页
        8.4.1 低于临界厚度时双层膜Cu(10 nm)/Permalloy(d nm)的磁特性第120-122页
        8.4.2 高于临界厚度时双层膜Cu(10 nm)/Permalloy(d nm)的磁特性第122-125页
    8.5 本章小结第125-126页
    参考文献第126-128页
第九章 总结第128-131页
在学期间的研究成果第131-132页
致谢第132页

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