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氧化铟晶体点缺陷和光学性质的研究

中文摘要第6-8页
ABSTRACT第8-9页
第一章 绪论第12-21页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 氧化铟(In_2O_3)晶体的研究现状第13-20页
        1.2.1 In_2O_3晶体的基本结构第13-14页
        1.2.2 In_2O_3晶体的制备方法第14-15页
        1.2.3 In_2O_3晶体的实验研究第15-19页
        1.2.4 In_2O_3晶体的计算机模拟第19-20页
    1.3 本工作的目的和任务第20-21页
第二章 理论研究方法第21-34页
    2.1 密度泛函理论第21-23页
        2.1.1 Thomas-Fermi-Drc模型第21页
        2.1.2 Hohenberg-Kohn定理第21-22页
        2.1.3 Kohn-Sham方法第22-23页
    2.2 多体微扰理论(MBPT)第23-27页
        2.2.1 Hedin方程第23-25页
        2.2.2 GW近似第25-26页
        2.2.3 Bethe-Salpeter方程第26-27页
    2.3 计算软件包介绍第27-28页
        2.3.1 VASP软件第27-28页
        2.3.2 WANNIER90软件第28页
    2.4 计算的性质第28-34页
        2.4.1 缺陷形成能的计算第28-31页
        2.4.2 光学性质的计算第31-34页
第三章 基于GGA+U方法对In_2O_3晶体点缺陷的研究第34-41页
    3.1 计算模拟和参数第34页
    3.2 电荷跃迁和能带矫正第34-35页
    3.3 In_2O_3晶体的空位和填隙位置第35页
    3.4 本征缺陷的讨论第35-39页
    3.5 肖特基缺陷和弗仑克尔缺陷的讨论第39-41页
第四章 In_2O_3基于DFT和MBPT计算的比较第41-45页
    4.1 计算模拟和参数第41页
    4.2 In_2O_3基于GGA,GGA+U,HSE06计算的结果电子能带结构第41-42页
    4.3 基于GGA+ G_0W_0,GGA+U+ G_0W_0,HSE06+ G_0W_0计算的电子能带结构第42-45页
第五章 G_0W_0-BSE计算光学性质第45-49页
    5.1 复折射率第45页
    5.2 复介电函数第45-46页
    5.3 吸收光谱和吸收机制第46-49页
第六章 全文总结第49-50页
参考文献第50-54页
在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果第54页

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