| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·铁电体 | 第10-12页 |
| ·铁电薄膜及其应用 | 第12-14页 |
| ·铋层状钙钛矿结构铁电体晶体结构 | 第14-16页 |
| ·铋层状钙钛矿结构铁电薄膜的制备技术 | 第16-18页 |
| ·铋层状钙钛矿结构铁电薄膜的研究现状 | 第18-20页 |
| ·本课题的提出及研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验设计与研究方法 | 第22-28页 |
| ·原料及有关仪器设备 | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜 | 第23-26页 |
| ·薄膜表征方法 | 第26-28页 |
| 第3章 热处理工艺对C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜取向及性能的影响 | 第28-39页 |
| ·热处理温度的初步确定 | 第28-29页 |
| ·C_(0.4)S_(0.6)BTi粉体的制备 | 第29页 |
| ·匀胶速度对C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜取向的影响 | 第29-30页 |
| ·热分解温度对C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜取向的影响 | 第30-32页 |
| ·退火温度对C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜取向及性能的影响 | 第32-35页 |
| ·a择优取向的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜热处理工艺优化及表征 | 第35-38页 |
| ·本章结论 | 第38-39页 |
| 第4章 TiO_2缓冲层对C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜取向的影响 | 第39-44页 |
| ·TiO_2缓冲层的结构表征 | 第39-40页 |
| ·沉积在TiO_2缓冲层上的C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜结构表征 | 第40-42页 |
| ·C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜与TiO_2缓冲层的外延关系研究 | 第42-43页 |
| ·本章结论 | 第43-44页 |
| 第5章 Sm掺杂对C_(0.4)S_(0.6)BTi薄膜取向及性能的影响 | 第44-50页 |
| ·原料及配方 | 第44页 |
| ·不同Sm掺量CSSxB_(4-x)T薄膜显微结构分析 | 第44-48页 |
| ·不同Sm掺量CSSxB_(4_x)T薄膜铁电性能分析 | 第48-49页 |
| ·本章结论 | 第49-50页 |
| 第6章 结论 | 第50-52页 |
| ·主要成果 | 第50页 |
| ·进一步解决的问题 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
