| 摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-14页 |
| 本文的创新点与主要贡献 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-28页 |
| 1.1 引言 | 第16页 |
| 1.2 硼及硼的性质 | 第16-19页 |
| 1.2.1 硼的存在形式 | 第16-17页 |
| 1.2.2 硼的晶体结构及电子结构 | 第17-18页 |
| 1.2.3 硼的物理性质和化学性质 | 第18-19页 |
| 1.3 硼的主要制备方法 | 第19-21页 |
| 1.3.1 化学气相沉积法 | 第19页 |
| 1.3.2 激光烧蚀及磁控溅射法 | 第19-20页 |
| 1.3.3 熔体法 | 第20-21页 |
| 1.4 Cu-B合金 | 第21-24页 |
| 1.4.1 Cu-B相图 | 第21-22页 |
| 1.4.2 Cu-B合金中硼的存在形式 | 第22-23页 |
| 1.4.3 铜熔体中硼生长的影响因素 | 第23-24页 |
| 1.5 硼的发展前景及应用 | 第24-26页 |
| 1.5.1 半导体材料 | 第24-25页 |
| 1.5.2 中子吸收材料 | 第25-26页 |
| 1.6 本文研究内容及意义 | 第26-28页 |
| 第二章 试验材料与研究方法 | 第28-34页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 研究思路与技术路线 | 第28-29页 |
| 2.3 试验材料与试验过程 | 第29-30页 |
| 2.3.1 试验原料及辅助设备 | 第29页 |
| 2.3.2 试验用合金的制备 | 第29-30页 |
| 2.4 样品的制备 | 第30页 |
| 2.4.1 萃取处理 | 第30页 |
| 2.4.2 研磨处理 | 第30页 |
| 2.5 样品的分析表征 | 第30-32页 |
| 2.5.1 扫描电镜观察 | 第30页 |
| 2.5.2 金相组织观察 | 第30-31页 |
| 2.5.3 透射电镜观察 | 第31页 |
| 2.5.4 X射线衍射分析 | 第31页 |
| 2.5.5 拉曼光谱分析 | 第31-32页 |
| 2.5.6 X射线光电子能谱分析 | 第32页 |
| 2.5.7 基质辅助飞行时间质谱分析 | 第32页 |
| 2.6 计算机模拟 | 第32-34页 |
| 第三章 常温常压下,铜熔体中α-B和β-B的形成机制及稳定性 | 第34-46页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 铜硼合金体系的液态结构分析 | 第34-35页 |
| 3.3 铜硼合金中硼的成分分析及晶体结构的确定 | 第35-39页 |
| 3.4 铜熔体中硼的形成及生长机制 | 第39-43页 |
| 3.4.1 铜熔体中α-B的形成机制 | 第39-40页 |
| 3.4.2 铜熔体中β-B的生长机制 | 第40-43页 |
| 3.5 硼的生长模型及其稳定性 | 第43-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 铜熔体中硼纳米结构的制备及其形成机制 | 第46-60页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 球状硼纳米颗粒的制备及其生长机制 | 第46-49页 |
| 4.2.1 硼纳米球的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.2 硼纳米球的生长机制 | 第48-49页 |
| 4.3 硼纳米颗粒由球状到花状的生长演变机制 | 第49-53页 |
| 4.3.1 第一性原理计算 | 第50-52页 |
| 4.3.2 硼纳米颗粒的失稳转变模型 | 第52-53页 |
| 4.4 硼纳米片的制备 | 第53-59页 |
| 4.4.1 硼纳米片的形成 | 第54-57页 |
| 4.4.2 硼纳米片的化合价及化学环境分析 | 第57-59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 附录 | 第72-74页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第74页 |