摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-27页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 半导体材料 | 第10-13页 |
1.2.1 半导体材料简介 | 第10-12页 |
1.2.2 半导体材料的分类 | 第12页 |
1.2.3 半导体材料的发展与现状 | 第12-13页 |
1.3 光催化剂的选择 | 第13-22页 |
1.3.1 光催化剂比较与选择 | 第13-14页 |
1.3.2 Cu_2O的基本性质及制备方法 | 第14-17页 |
1.3.2.1 液相合成法 | 第14-15页 |
1.3.2.2 化学沉积法 | 第15-16页 |
1.3.2.3 电沉积法 | 第16页 |
1.3.2.4 气相沉积法 | 第16页 |
1.3.2.5 其他方法 | 第16-17页 |
1.3.3 CuS的基本性质及制备方法 | 第17-22页 |
1.3.3.1 水热法 | 第17-18页 |
1.3.3.2 溶剂热法 | 第18-19页 |
1.3.3.3 模板法 | 第19-21页 |
1.3.3.4 化学水浴法 | 第21-22页 |
1.4 无机膜的概念 | 第22-23页 |
1.5 本论文研究目的及拟要解决的关键问题 | 第23-27页 |
第二章 Cu_2O/CuS复合光催化膜的制备 | 第27-43页 |
2.1 引言 | 第27-28页 |
2.2 实验部分 | 第28-32页 |
2.2.1 实验药品及仪器设备 | 第28-29页 |
2.2.2 实验所用的表征方法 | 第29页 |
2.2.3 Cu_2O单层膜的制备 | 第29页 |
2.2.4 Cu_2O/CuS复合光催化膜的制备 | 第29-30页 |
2.2.5 Cu_2O/CuS复合光催化膜的正交实验设计 | 第30-32页 |
2.3 实验结果分析 | 第32-41页 |
2.3.1 表面形貌与颗粒形貌 | 第32页 |
2.3.2 正交实验结果分析 | 第32-38页 |
2.3.3 二次水热反应条件确定 | 第38-41页 |
2.4 本章小结 | 第41-43页 |
第三章 Cu_2O/CuS复合光催化膜的表征与性能研究 | 第43-61页 |
3.1 引言 | 第43页 |
3.2 Cu_2O/CuS复合光催化膜的制备及表征 | 第43-48页 |
3.2.1 Cu_2O/CuS复合光催化膜的制备 | 第43页 |
3.2.2 表面形貌(SEM)分析 | 第43-44页 |
3.2.3 能量色散X射线光谱(EDX)分析 | 第44-45页 |
3.2.4 X射线衍射(XRD)分析 | 第45-46页 |
3.2.5 高分辨透射(HRTEM)分析 | 第46-47页 |
3.2.6 Cu_2O/CuS复合光催化膜材料生长机理分析 | 第47-48页 |
3.3 Cu_2O/CuS复合光催化膜光催化性能 | 第48-58页 |
3.3.1 光催化实验及甲基橙溶液配制 | 第48-50页 |
3.3.2 光催化性能测试 | 第50-52页 |
3.3.3 结果与讨论 | 第52-58页 |
3.4 本章小结 | 第58-61页 |
第四章 结论 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-71页 |
攻读硕士期间发表论文及参与科研项目 | 第71-73页 |
致谢 | 第73页 |