| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 注释表 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 3DP技术概述 | 第14-20页 |
| 1.1.1 3DP技术的定义 | 第14页 |
| 1.1.2 3DP技术的特点 | 第14-15页 |
| 1.1.3 3DP技术的应用 | 第15-17页 |
| 1.1.4 3DP技术的分类 | 第17-19页 |
| 1.1.5 光固化 3DP技术的发展 | 第19-20页 |
| 1.2 光固化3DP材料 | 第20-27页 |
| 1.2.1 主要组分 | 第20-22页 |
| 1.2.2 光固化反应原理 | 第22-23页 |
| 1.2.3 3DP材料的种类 | 第23-25页 |
| 1.2.4 改性 3DP材料的研究 | 第25-27页 |
| 1.3 课题研究目的及研究内容 | 第27-29页 |
| 1.3.1 研究目的 | 第27-28页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第28-29页 |
| 1.4 研究技术路线 | 第29-30页 |
| 第二章 EA基 3DP材料的制备及性能研究 | 第30-49页 |
| 2.1 实验部分 | 第30-34页 |
| 2.1.1 试验原料和仪器 | 第30-31页 |
| 2.1.2 3DP材料的制备及固化 | 第31-32页 |
| 2.1.3 性能测试方法 | 第32-34页 |
| 2.2 固化工艺性能 | 第34-42页 |
| 2.2.1 粘度 | 第34-36页 |
| 2.2.2 固化度 | 第36-38页 |
| 2.2.3 固化收缩性能 | 第38-40页 |
| 2.2.4 固化物的力学性能 | 第40-42页 |
| 2.3 3DP材料的光固化特性 | 第42-47页 |
| 2.3.1 光固化速度 | 第42-45页 |
| 2.3.2 光固化动力学方程 | 第45-46页 |
| 2.3.3 光固化特性参数 | 第46-47页 |
| 2.4 最佳配方的确定 | 第47-48页 |
| 2.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第三章 纳米SiO_2/EA基 3DP材料的制备及性能研究 | 第49-63页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 实验部分 | 第49-52页 |
| 3.2.1 主要原料和仪器设备 | 第49-50页 |
| 3.2.2 纳米SiO_2的表面处理及表征 | 第50-51页 |
| 3.2.3 纳米SiO_2/EA基 3DP材料的制备及固化 | 第51页 |
| 3.2.4 纳米SiO_2/EA基 3DP材料的性能表征 | 第51-52页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第52-61页 |
| 3.3.1 纳米SiO_2的表面处理分析 | 第52-54页 |
| 3.3.2 粘度 | 第54-55页 |
| 3.3.3 体积收缩率 | 第55-56页 |
| 3.3.4 热性能 | 第56-57页 |
| 3.3.5 光固化特性 | 第57页 |
| 3.3.6 固化物的力学性能 | 第57-59页 |
| 3.3.7 断裂机制分析 | 第59-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 CNTs/EA基 3DP材料的制备及性能研究 | 第63-75页 |
| 4.1 引言 | 第63页 |
| 4.2 实验部分 | 第63-66页 |
| 4.2.1 主要原料和仪器设备 | 第63-64页 |
| 4.2.2 CNTs的表面处理及表征 | 第64-65页 |
| 4.2.3 CNTs/EA基 3DP材料的制备及固化 | 第65页 |
| 4.2.4 CNTs/EA基 3DP材料的性能表征 | 第65-66页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第66-74页 |
| 4.3.1 CNTs的表面处理分析 | 第66-68页 |
| 4.3.2 粘度 | 第68页 |
| 4.3.3 体积收缩率 | 第68-69页 |
| 4.3.4 光固化特性 | 第69-70页 |
| 4.3.5 热性能 | 第70页 |
| 4.3.6 固化物的力学性能 | 第70-72页 |
| 4.3.7 断裂机制分析 | 第72-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 结论与展望 | 第75-77页 |
| 5.1 实验结论 | 第75-76页 |
| 5.2 前景展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 在学期间的学术成果以及发表的学术论文 | 第85页 |
