| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题研究目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 Ni-Mn-In磁驱动形状记忆合金的晶体结构与相变 | 第11-14页 |
| 1.2.1 Ni-Mn-In的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 Ni-Mn-In合金的磁场控制马氏体行为 | 第13-14页 |
| 1.3 磁驱动形状记忆合金薄膜国内外研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4 选题意义及主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第17-22页 |
| 2.1 合金薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| 2.1.1 靶材的熔炼 | 第17页 |
| 2.1.2 基片的处理 | 第17页 |
| 2.1.3 薄膜的制作过程 | 第17-19页 |
| 2.1.4 薄膜制备操作规范 | 第19-20页 |
| 2.2 马氏体相变行为研究 | 第20页 |
| 2.3 组织结构分析 | 第20页 |
| 2.4 本章小节 | 第20-22页 |
| 第3章 无约束Ni-Mn-In合金薄膜的制备工艺研究 | 第22-36页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 采用水溶性衬底制备Ni-Mn-In无约束合金薄膜 | 第22-24页 |
| 3.3 利用湿法刻蚀原理制备无约束合金薄膜 | 第24-25页 |
| 3.4 利用机械剥离方法制备无约束Ni-Mn-In合金薄膜 | 第25-26页 |
| 3.5 利用光刻胶制备Ni-Mn-In无约束合金薄膜 | 第26-28页 |
| 3.6 制备工艺对无约束Ni-Mn-In薄膜化学成分的影响 | 第28-30页 |
| 3.7 制备工艺对无约束Ni-Mn-In合金薄膜表面形貌的影响 | 第30-33页 |
| 3.8 Ni-Mn-In合金薄膜的晶化动力学 | 第33-35页 |
| 3.9 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 Co掺杂对Ni-Mn-In相变及磁性影响机理 | 第36-49页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 密度泛函理论 | 第36-37页 |
| 4.3 赝势方法及CASTEP模块 | 第37-38页 |
| 4.4 计算模型及参数 | 第38-39页 |
| 4.5 Co含量与合金晶格常数及总能量的关系 | 第39-40页 |
| 4.6 Ni-Mn-In-Co合金的磁性质 | 第40-42页 |
| 4.7 Ni-Mn-In-Co合金的能带结构与态密度 | 第42-47页 |
| 4.8 本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
