WO3,W-Zn-O,W-La-O的制备及其光催化性能研究
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 文献综述 | 第12-24页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 研究背景 | 第12-18页 |
1.2.1 染料污水来源、特征及其危害 | 第12-13页 |
1.2.2 染料污水处理方法 | 第13-16页 |
1.2.3 半导体光催化剂的研究现状 | 第16-18页 |
1.3 三氧化钨的研究现状 | 第18-22页 |
1.3.1 WO_3的晶体结构 | 第18-19页 |
1.3.2 氧化钨的制备方法 | 第19-20页 |
1.3.3 三氧化钨的应用 | 第20-22页 |
1.4 本课题研究意义和主要内容 | 第22-24页 |
1.4.1 本课题的研究意义 | 第22-23页 |
1.4.2 课题主要研究内容 | 第23-24页 |
第二章 WO_3的制备及其光催化性能研究 | 第24-42页 |
2.1 实验试剂及实验设备 | 第24-26页 |
2.1.1 实验主要试剂 | 第24-25页 |
2.1.2 实验设备 | 第25-26页 |
2.2 实验部分 | 第26-28页 |
2.2.1 WO_3制备 | 第26页 |
2.2.2 样品表征 | 第26页 |
2.2.3 光催化实验 | 第26-28页 |
2.3 结果与讨论 | 第28-41页 |
2.3.1 催化剂结构性能分析 | 第28-32页 |
2.3.2 RhB光催化降解 | 第32-39页 |
2.3.3 WO_3对AO7光催化降解 | 第39-41页 |
2.4 本章小结 | 第41-42页 |
第三章 W-Zn-O的制备及其光催化性能研究 | 第42-58页 |
3.1 实验试剂及实验设备 | 第42-44页 |
3.1.1 实验主要试剂 | 第42-43页 |
3.1.2 实验设备 | 第43-44页 |
3.2 实验部分 | 第44-45页 |
3.2.1 W-Zn-O的制备 | 第44页 |
3.2.2 样品表征 | 第44-45页 |
3.2.3 光催化实验 | 第45页 |
3.3 结果与讨论 | 第45-57页 |
3.3.1 催化剂结构性能分析 | 第45-51页 |
3.3.2 RhB光催化降解 | 第51-55页 |
3.3.3 W-Zn-O对A07光催化降解 | 第55-57页 |
3.4 本章小结 | 第57-58页 |
第四章 W-La-O的制备及其光催化性能研究 | 第58-74页 |
4.1 实验试剂及实验设备 | 第58-60页 |
4.1.1 实验主要试剂 | 第58-59页 |
4.1.2 实验设备 | 第59-60页 |
4.2 实验部分 | 第60-61页 |
4.2.1 W-La-O的制备 | 第60页 |
4.2.2 样品的表征 | 第60-61页 |
4.2.3 光催化实验 | 第61页 |
4.3 结果与讨论 | 第61-73页 |
4.3.1 催化剂结构性能分析 | 第61-67页 |
4.3.2 RhB光催化降解 | 第67-70页 |
4.3.3 W-La-O对AO_7光催化降解 | 第70-73页 |
4.4 本章小结 | 第73-74页 |
总结与展望 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-89页 |
攻读学位期间获得的科研成果 | 第89-90页 |
致谢 | 第90-92页 |