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低介电常数聚酰亚胺薄膜制备与性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-12页
第一章 绪论第12-26页
   ·低k材料概述第12-18页
     ·低k材料基本特征第12-14页
     ·低k材料历史发展及现状第14-18页
   ·聚酰亚胺材料概述第18-20页
   ·聚酰亚胺类低k材料第20-25页
     ·不同分子结构的聚酰亚胺材料第20-21页
     ·聚酰亚胺无机杂化材料第21-22页
     ·聚酰亚胺多孔低k材料第22-25页
   ·论文研究的目的、内容及意义第25-26页
第二章 合成与制备第26-40页
   ·实验材料及实验方法第26-27页
     ·实验原料第26页
     ·制备过程第26-27页
     ·性能测试第27页
   ·实验药品预处理第27-36页
     ·含氟单体的预处理第27页
     ·纳米二氧化硅的预处理第27-36页
   ·聚酰亚胺结构表征第36-39页
     ·PI薄膜纳米微孔表征第36页
     ·含氟聚酰亚胺结构表征第36-39页
   ·本章小节第39-40页
第三章 聚合物性能表征第40-58页
   ·透射电镜图第40-41页
   ·热性能测试第41-43页
   ·介电常数第43-49页
     ·DNS-2为造孔剂时PI薄膜的k值第43-44页
     ·普通SiO_2为造孔剂时的k值第44-45页
     ·不同方法测得k值第45-49页
   ·机械强度第49-53页
     ·拉伸最大负荷第49-50页
     ·拉伸强度第50-52页
     ·弹性模量第52-53页
     ·断裂伸长率第53页
   ·接触角测定第53-57页
   ·本章小节第57-58页
第四章 结论第58-60页
参考文献第60-66页
致谢第66-68页
作者简介和攻读硕士学位期间研究成果第68-69页
附录第69-70页

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