| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 选题背景与研究意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-17页 |
| 1.2.1 In_xGa_(1-x)N材料的辐照损伤研究 | 第9-12页 |
| 1.2.2 离子束辐照导致 Ш 族氮化物材料表面形貌变化的研究 | 第12-14页 |
| 1.2.3 离子束辐照导致 Ш 族氮化物材料化学组分变化的研究 | 第14-17页 |
| 1.3 本论文的主要工作 | 第17-19页 |
| 第二章 实验 | 第19-24页 |
| 2.1 实验样品 | 第19页 |
| 2.2 离子辐照与退火实验 | 第19-21页 |
| 2.3 样品表面形貌测试 | 第21-22页 |
| 2.4 样品表面化学组分的测试 | 第22-24页 |
| 第三章 离子束辐照导致In_xGa_(1-x)N表面形貌变化的研究 | 第24-36页 |
| 3.1 原生薄膜的表面形貌分析 | 第24-26页 |
| 3.2 室温Xe离子辐照导致薄膜表面形貌的变化 | 第26-28页 |
| 3.3 室温Xe离子辐照后薄膜表面形貌的高温退火效应 | 第28-30页 |
| 3.4 高温Xe离子辐照导致薄膜表面形貌的变化 | 第30-32页 |
| 3.5 离子束辐照导致薄膜表面出现凸起和凹坑的物理机制 | 第32-36页 |
| 第四章 离子束辐照导致In_xGa_(1-x)N化学组分变化的研究 | 第36-45页 |
| 4.1 原生薄膜的化学组分分析 | 第36-37页 |
| 4.2 室温Xe离子辐照导致薄膜表面化学组分的变化 | 第37-43页 |
| 4.3 高温Xe离子辐照导致薄膜表面化学组分的变化 | 第43-45页 |
| 第五章 总结与展望 | 第45-47页 |
| 5.1 总结 | 第45页 |
| 5.2 展望 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 在学期间的研究成果 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 附录 1 | 第54-56页 |
