摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
缩略词 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-25页 |
1.1 引言 | 第13页 |
1.2 硅基光子学 | 第13-16页 |
1.3 硅基光耦合技术 | 第16-23页 |
1.3.1 横向耦合器 | 第16-17页 |
1.3.2 棱镜耦合器 | 第17-18页 |
1.3.3 楔形模斑转换器 | 第18-19页 |
1.3.4 光栅耦合器 | 第19-23页 |
1.4 论文主要结构 | 第23-25页 |
第二章 光栅耦合器的基本原理和分析方法 | 第25-33页 |
2.1 光耦合效率 | 第25页 |
2.2 光栅耦合基本理论 | 第25-27页 |
2.2.1 光栅原始结构 | 第25-26页 |
2.2.2 布拉格条件 | 第26-27页 |
2.3 光栅的分析方法 | 第27-32页 |
2.3.1 波矢图法 | 第27-28页 |
2.3.2 耦合模法 | 第28-29页 |
2.3.3 时域有限差分法 | 第29-32页 |
2.4 本章小结 | 第32-33页 |
第三章 光栅耦合器的结构和性能研究 | 第33-42页 |
3.1 基于SOI的光栅耦合器特性分析 | 第33-38页 |
3.1.1 波导与光纤之间的耦合影响 | 第33-34页 |
3.1.2 光栅周期对耦合效果的影响 | 第34-35页 |
3.1.3 顶层硅厚度对耦合效果的影响 | 第35-37页 |
3.1.4 光栅长度和埋氧层厚度对耦合效果的影响 | 第37-38页 |
3.1.5 折射率变化对耦合效果的影响 | 第38页 |
3.2 外部条件对光栅耦合器的影响 | 第38-40页 |
3.2.1 光源入射角和位置对耦合效果的影响 | 第38-39页 |
3.2.2 反射层和顶层介质模对耦合效果的影响 | 第39-40页 |
3.3 普通均匀光栅耦合器的设计 | 第40-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-42页 |
第四章 前端啁啾切趾光栅耦合器的设计 | 第42-57页 |
4.1 等效介质理论 | 第42-43页 |
4.2 啁啾切趾光栅耦合器设计 | 第43-52页 |
4.2.1 前端线性变化的啁啾切趾光栅设计 | 第45-46页 |
4.2.2 前端升余弦变化的啁啾切趾光栅设计 | 第46-47页 |
4.2.3 前端斐波拉契数列变化的啁啾光栅设计 | 第47-48页 |
4.2.4 前端啁啾切趾光栅的有效折射率变化 | 第48-49页 |
4.2.5 前端啁啾切趾光栅耦合效率及带宽分析 | 第49-51页 |
4.2.6 均匀光栅与前端啁啾切趾光栅耦合波形分析 | 第51-52页 |
4.3 带底部反射镜的啁啾切趾光栅设计 | 第52-56页 |
4.3.1 带Ag反射镜的啁啾切趾光栅设计 | 第52-53页 |
4.3.2 带DBR反射镜的啁啾切趾光栅设计 | 第53-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-57页 |
第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
5.1 工作总结 | 第57页 |
5.2 工作展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
致谢 | 第64页 |