| 致谢 | 第4-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| abstract | 第8-9页 |
| 缩略语 | 第10-12页 |
| 目次 | 第12-14页 |
| 1. 前言 | 第14-18页 |
| 2. 主要仪器设备、材料与试剂 | 第18-23页 |
| 2.1 主要仪器设备和耗材 | 第18页 |
| 2.2 细胞及其培养液 | 第18-19页 |
| 2.3 主要试剂 | 第19-20页 |
| 2.4 试剂配制 | 第20-23页 |
| 2.4.1 细胞培养液配制 | 第20页 |
| 2.4.2 Western blotting相关试剂配制 | 第20-22页 |
| 2.4.3 激光共聚焦实验试剂配制 | 第22页 |
| 2.4.4 透射电子显微镜实验相关试剂配制 | 第22-23页 |
| 3. 实验方法 | 第23-29页 |
| 3.1 sXc-ELF工频磁场辐照系统 | 第23-24页 |
| 3.2 细胞培养与分组 | 第24页 |
| 3.3 工频磁场对MEF细胞自噬影响的检测 | 第24-27页 |
| 3.3.1 Western blotting检测工频磁场对MEF细胞LC3-Ⅱ蛋白表达的影响 | 第24-26页 |
| 3.3.2 激光共聚焦焦显微镜观察工频磁场对稳转GFP-LC3 MEF细胞GFP-LC3亮点数的影响 | 第26页 |
| 3.3.3 透射电子显微镜观察工频磁场对MEF细胞自噬泡形成的影响 | 第26-27页 |
| 3.4 工频磁场对MEF细胞ROS影响的检测 | 第27页 |
| 3.5 工频磁场对MEF细胞凋亡影响的检测 | 第27-29页 |
| 3.5.1 流式细胞仪检测工频磁场对MEF细胞凋亡的影响 | 第27页 |
| 3.5.2 Tunel法检测工频磁场对MEF细胞凋亡的影响 | 第27-29页 |
| 4. 实验结果 | 第29-39页 |
| 4.1 工频磁场暴露对MEF细胞自噬的影响 | 第29-34页 |
| 4.1.1 工频磁场暴露对MEF细胞自噬标志物的表达水平的影响 | 第29-32页 |
| 4.1.2 工频磁场暴露对MEF细胞自噬流量的影响 | 第32-34页 |
| 4.1.3 工频磁场暴露对MEF细胞p70s6k磷酸化的影响 | 第34页 |
| 4.2 工频磁场暴露对MEF细胞ROS水平的影响 | 第34-35页 |
| 4.3 工频磁场暴露对MEF细胞凋亡的影响 | 第35-39页 |
| 5. 讨论 | 第39-41页 |
| 6. 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-48页 |
| 综述 | 第48-65页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 作者简历及在读期间所取得的科研成果 | 第65页 |
