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低碳钢表面Fe-Si层的制备及相关电化学行为研究

摘要第6-9页
ABSTRACT第9-12页
目录第13-16页
第一章 绪论第16-38页
    1.1 引言第16-17页
    1.2 铁合金层中 Si 的作用第17页
    1.3 过渡金属硅化物 Fe_3Si 的结构与性能第17-20页
        1.3.1 Fe_3Si 的结构及基本特性第17-19页
        1.3.2 Fe_3Si 的力学行为研究第19-20页
    1.4 金属表面合金层制备技术第20-24页
        1.4.1 表面覆盖技术第21-22页
        1.4.2 热扩渗第22-24页
    1.5 电镀与复合电镀研究概况第24-30页
        1.5.1 电镀原理第24-25页
        1.5.2 复合电镀第25-30页
    1.6 纳米复合电镀第30-32页
        1.6.1 纳米复合电镀的研究现状和用途第30-32页
        1.6.2 纳米微粒对复合电镀过程的影响第32页
    1.7 金属表面钝化第32-36页
        1.7.1 金属的钝化第32-33页
        1.7.2 钢铁材料表面钝化的研究第33-35页
        1.7.3 其它金属材料表面钝化的研究第35-36页
    1.8 本文的选题意义和研究内容第36-38页
第二章 实验方法及分析手段第38-48页
    2.1 实验药品及仪器设备第38-39页
    2.2 固相热扩渗制备 Fe-Si 合金层第39-41页
        2.2.1 涂覆粉体的制备第39页
        2.2.2 基体所用材料第39-40页
        2.2.3 工艺流程第40-41页
    2.3 电沉积制备 Fe-Si 复合沉积层第41-45页
        2.3.1 电化学法研究纯铁的沉积过程第41页
        2.3.2 低碳钢电极的制备第41-42页
        2.3.3 镀液成分及工艺条件第42-45页
    2.4 表征分析及其相关性能测试方法第45-46页
        2.4.1 制备粉体的表征与分析第45页
        2.4.2 制备的合金层样品的表征与分析第45页
        2.4.3 制备的 Fe-Si 复合沉积层表征与分析第45页
        2.4.4 样品表面粗糙度、硬度及磁性能测试第45-46页
    2.5 电化学分析方法第46-47页
    2.6 电结晶行为测试第47-48页
第三章 低碳钢表面 Fe-Si 合金层的制备第48-82页
    3.1 引言第48页
    3.2 铁硅体系中的化学反应第48-50页
    3.3 Fe-Si 合金层的制备第50-51页
    3.4 Fe-Si 合金层的表征第51-66页
        3.4.1 表面形貌与成分分析第51-57页
        3.4.2 物相分析第57-61页
        3.4.3 截面分析第61-64页
        3.4.4 低碳钢表面 Fe-Si 合金化过程第64-66页
    3.5 Fe-Si 合金层的性能测试第66-80页
        3.5.1 表面粗糙度分析第66-67页
        3.5.2 样品的硬度第67-68页
        3.5.3 样品的磁性能测试第68-72页
        3.5.4 样品的电化学分析第72-80页
    3.6 本章小结第80-82页
第四章 低碳钢表面 Fe-Si 复合电沉积层的制备及电化学分析方法第82-125页
    4.1 引言第82-83页
    4.2 电沉积层的制备及性能测试第83-110页
        4.2.1 最佳工艺条件的确定第83-85页
        4.2.2 基体粗糙度对 Fe-Si 复合沉积层的影响第85-91页
        4.2.3 沉积电流密度对 Fe-Si 复合沉积层的影响第91-96页
        4.2.4 硅加入量对 Fe-Si 复合沉积层的影响第96-102页
        4.2.5 热处理温度对 Fe-Si 复合沉积层的影响第102-108页
        4.2.6 样品的磁性能测试第108-110页
    4.3 Fe-Si 复合电沉积电化学方法分析第110-122页
        4.3.1 循环伏安曲线分析第110-112页
        4.3.2 计时安培分析第112-116页
        4.3.3 电化学阻抗谱分析第116-122页
    4.4 本章小结第122-125页
第五章 Fe-Si 合金层表面钝化的电化学研究第125-153页
    5.1 引言第125-127页
    5.2 合金层的钝化第127-137页
        5.2.1 极化曲线第127-129页
        5.2.2 恒电位阳极钝化过程的 logi-logt 曲线分析第129-132页
        5.2.3 电化学阻抗第132-137页
    5.3 合金层表面钝化膜的半导体性质第137-147页
    5.4 合金层表面钝化膜的点缺陷扩散系数第147-151页
    5.5 本章小结第151-153页
第六章 基于人工神经网络优化 Fe-Si 合金层工艺第153-171页
    6.1 引言第153页
    6.2 人工神经网络理论基础第153-157页
        6.2.1 BP 神经网络学习算法第154-157页
        6.2.2 BP 神经网络程序设计第157页
    6.3 人工神经网络软件第157-164页
        6.3.1 人工神经网络软件开发工具第157-158页
        6.3.2 人工神经网络软件功能模块第158-160页
        6.3.3 人工神经网络软件功能封装及计算步骤的实现第160-164页
    6.4 人工神经网络对 Fe-Si 合金工艺的优化第164-170页
        6.4.1 Fe-Si 合金工艺神经网络模型构建第164-165页
        6.4.2 Fe-Si 合金工艺神经网络模型参数选择第165-166页
        6.4.3 Fe-Si 合金工艺神经网络模型预测第166-167页
        6.4.4 Fe-Si 合金层工艺综合指标评价模型第167-170页
    6.5 小结第170-171页
第七章 结论与展望第171-175页
    7.1 主要结论第171-173页
    7.2 创新之处第173-174页
    7.3 展望第174-175页
参考文献第175-185页
作者在攻读博士学位期间公开发表的论文、专利和获得的奖项第185-188页
致谢第188-189页

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