摘要 | 第6-9页 |
ABSTRACT | 第9-12页 |
目录 | 第13-16页 |
第一章 绪论 | 第16-38页 |
1.1 引言 | 第16-17页 |
1.2 铁合金层中 Si 的作用 | 第17页 |
1.3 过渡金属硅化物 Fe_3Si 的结构与性能 | 第17-20页 |
1.3.1 Fe_3Si 的结构及基本特性 | 第17-19页 |
1.3.2 Fe_3Si 的力学行为研究 | 第19-20页 |
1.4 金属表面合金层制备技术 | 第20-24页 |
1.4.1 表面覆盖技术 | 第21-22页 |
1.4.2 热扩渗 | 第22-24页 |
1.5 电镀与复合电镀研究概况 | 第24-30页 |
1.5.1 电镀原理 | 第24-25页 |
1.5.2 复合电镀 | 第25-30页 |
1.6 纳米复合电镀 | 第30-32页 |
1.6.1 纳米复合电镀的研究现状和用途 | 第30-32页 |
1.6.2 纳米微粒对复合电镀过程的影响 | 第32页 |
1.7 金属表面钝化 | 第32-36页 |
1.7.1 金属的钝化 | 第32-33页 |
1.7.2 钢铁材料表面钝化的研究 | 第33-35页 |
1.7.3 其它金属材料表面钝化的研究 | 第35-36页 |
1.8 本文的选题意义和研究内容 | 第36-38页 |
第二章 实验方法及分析手段 | 第38-48页 |
2.1 实验药品及仪器设备 | 第38-39页 |
2.2 固相热扩渗制备 Fe-Si 合金层 | 第39-41页 |
2.2.1 涂覆粉体的制备 | 第39页 |
2.2.2 基体所用材料 | 第39-40页 |
2.2.3 工艺流程 | 第40-41页 |
2.3 电沉积制备 Fe-Si 复合沉积层 | 第41-45页 |
2.3.1 电化学法研究纯铁的沉积过程 | 第41页 |
2.3.2 低碳钢电极的制备 | 第41-42页 |
2.3.3 镀液成分及工艺条件 | 第42-45页 |
2.4 表征分析及其相关性能测试方法 | 第45-46页 |
2.4.1 制备粉体的表征与分析 | 第45页 |
2.4.2 制备的合金层样品的表征与分析 | 第45页 |
2.4.3 制备的 Fe-Si 复合沉积层表征与分析 | 第45页 |
2.4.4 样品表面粗糙度、硬度及磁性能测试 | 第45-46页 |
2.5 电化学分析方法 | 第46-47页 |
2.6 电结晶行为测试 | 第47-48页 |
第三章 低碳钢表面 Fe-Si 合金层的制备 | 第48-82页 |
3.1 引言 | 第48页 |
3.2 铁硅体系中的化学反应 | 第48-50页 |
3.3 Fe-Si 合金层的制备 | 第50-51页 |
3.4 Fe-Si 合金层的表征 | 第51-66页 |
3.4.1 表面形貌与成分分析 | 第51-57页 |
3.4.2 物相分析 | 第57-61页 |
3.4.3 截面分析 | 第61-64页 |
3.4.4 低碳钢表面 Fe-Si 合金化过程 | 第64-66页 |
3.5 Fe-Si 合金层的性能测试 | 第66-80页 |
3.5.1 表面粗糙度分析 | 第66-67页 |
3.5.2 样品的硬度 | 第67-68页 |
3.5.3 样品的磁性能测试 | 第68-72页 |
3.5.4 样品的电化学分析 | 第72-80页 |
3.6 本章小结 | 第80-82页 |
第四章 低碳钢表面 Fe-Si 复合电沉积层的制备及电化学分析方法 | 第82-125页 |
4.1 引言 | 第82-83页 |
4.2 电沉积层的制备及性能测试 | 第83-110页 |
4.2.1 最佳工艺条件的确定 | 第83-85页 |
4.2.2 基体粗糙度对 Fe-Si 复合沉积层的影响 | 第85-91页 |
4.2.3 沉积电流密度对 Fe-Si 复合沉积层的影响 | 第91-96页 |
4.2.4 硅加入量对 Fe-Si 复合沉积层的影响 | 第96-102页 |
4.2.5 热处理温度对 Fe-Si 复合沉积层的影响 | 第102-108页 |
4.2.6 样品的磁性能测试 | 第108-110页 |
4.3 Fe-Si 复合电沉积电化学方法分析 | 第110-122页 |
4.3.1 循环伏安曲线分析 | 第110-112页 |
4.3.2 计时安培分析 | 第112-116页 |
4.3.3 电化学阻抗谱分析 | 第116-122页 |
4.4 本章小结 | 第122-125页 |
第五章 Fe-Si 合金层表面钝化的电化学研究 | 第125-153页 |
5.1 引言 | 第125-127页 |
5.2 合金层的钝化 | 第127-137页 |
5.2.1 极化曲线 | 第127-129页 |
5.2.2 恒电位阳极钝化过程的 logi-logt 曲线分析 | 第129-132页 |
5.2.3 电化学阻抗 | 第132-137页 |
5.3 合金层表面钝化膜的半导体性质 | 第137-147页 |
5.4 合金层表面钝化膜的点缺陷扩散系数 | 第147-151页 |
5.5 本章小结 | 第151-153页 |
第六章 基于人工神经网络优化 Fe-Si 合金层工艺 | 第153-171页 |
6.1 引言 | 第153页 |
6.2 人工神经网络理论基础 | 第153-157页 |
6.2.1 BP 神经网络学习算法 | 第154-157页 |
6.2.2 BP 神经网络程序设计 | 第157页 |
6.3 人工神经网络软件 | 第157-164页 |
6.3.1 人工神经网络软件开发工具 | 第157-158页 |
6.3.2 人工神经网络软件功能模块 | 第158-160页 |
6.3.3 人工神经网络软件功能封装及计算步骤的实现 | 第160-164页 |
6.4 人工神经网络对 Fe-Si 合金工艺的优化 | 第164-170页 |
6.4.1 Fe-Si 合金工艺神经网络模型构建 | 第164-165页 |
6.4.2 Fe-Si 合金工艺神经网络模型参数选择 | 第165-166页 |
6.4.3 Fe-Si 合金工艺神经网络模型预测 | 第166-167页 |
6.4.4 Fe-Si 合金层工艺综合指标评价模型 | 第167-170页 |
6.5 小结 | 第170-171页 |
第七章 结论与展望 | 第171-175页 |
7.1 主要结论 | 第171-173页 |
7.2 创新之处 | 第173-174页 |
7.3 展望 | 第174-175页 |
参考文献 | 第175-185页 |
作者在攻读博士学位期间公开发表的论文、专利和获得的奖项 | 第185-188页 |
致谢 | 第188-189页 |