中空二氧化硅纳米粒子制备减反射薄膜的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 符号说明 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 概述 | 第12页 |
| 1.2 减反射薄膜材料的选择 | 第12-13页 |
| 1.3 减反射薄膜的研究现状及趋势 | 第13-16页 |
| 1.3.1 干涉型减反射薄膜的制备方法及研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3.2 仿生型减反射薄膜的制备方法及研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 减反射薄膜的原理 | 第16-19页 |
| 1.5 课题来源及主要研究内容 | 第19-20页 |
| 1.5.1 课题来源 | 第19页 |
| 1.5.2 课题主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 减反射薄膜的设计参数 | 第20-23页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 减反射薄膜的设计原理 | 第20-23页 |
| 2.2.1 单层减反射薄膜的最佳设计参数 | 第20-21页 |
| 2.2.2 双层减反射薄膜的最佳设计参数 | 第21页 |
| 2.2.3 三层减反射薄膜的最佳设计参数 | 第21-23页 |
| 第三章 实验设备及原料 | 第23-24页 |
| 3.1 实验设备 | 第23页 |
| 3.2 实验原料 | 第23-24页 |
| 第四章 中空二氧化硅纳米粒子的制备 | 第24-34页 |
| 4.1 引言 | 第24页 |
| 4.2 中空二氧化硅纳米粒子的制备及结构调控 | 第24-33页 |
| 4.2.1 中空二氧化硅纳米粒子的制备 | 第24-26页 |
| 4.2.2 中空二氧化硅纳米粒子的结构调控 | 第26-33页 |
| 4.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第五章 中空二氧化硅纳米粒子减反射薄膜的制备 | 第34-58页 |
| 5.1 引言 | 第34-35页 |
| 5.2 实验部分 | 第35-36页 |
| 5.2.1 玻璃基材的亲水处理 | 第35页 |
| 5.2.2 减反射薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第36-56页 |
| 5.3.1 单层减反射薄膜制备的影响因素 | 第36-47页 |
| 5.3.2 双层减反射薄膜的制备 | 第47-52页 |
| 5.3.3 三层减反射薄膜的制备 | 第52-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 结论 | 第58-59页 |
| 6.2 研究展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第68页 |
