| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| 1.1 纳米材料的种类 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米材料的性能及应用 | 第12-14页 |
| 1.3 纳米材料的制备方法 | 第14-17页 |
| 1.3.1 物理法制备 | 第15页 |
| 1.3.2 化学法制备 | 第15-17页 |
| 1.4 非晶态材料概述 | 第17-19页 |
| 1.5 纳米玻璃 | 第19-22页 |
| 1.6 氧化铝概述 | 第22-25页 |
| 1.7 非晶态氧化铝 | 第25页 |
| 1.8 Al_2O_3纳米粉体的制备方法 | 第25-28页 |
| 1.9 非晶态氧化铝制备的现状 | 第28-29页 |
| 1.10 选题依据和研究内容 | 第29-30页 |
| 1.10.1 选题依据 | 第29-30页 |
| 1.10.2 研究内容 | 第30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 第二章 化学沉淀法理论基础及纳米颗粒的表征技术 | 第34-50页 |
| 2.1 液相中颗粒的成核过程 | 第34-37页 |
| 2.2 液相中颗粒的生长过程 | 第37页 |
| 2.3 颗粒的团聚过程 | 第37-39页 |
| 2.4 前驱体颗粒的干燥及煅烧 | 第39-41页 |
| 2.4.1 前驱体颗粒的干燥 | 第39-40页 |
| 2.4.2 前驱体颗粒的煅烧 | 第40-41页 |
| 2.5 纳米颗粒的表征技术 | 第41-47页 |
| 2.5.1 X-ray衍射(XRD) | 第41-43页 |
| 2.5.2 差热-热重分析(TG-DTA) | 第43-44页 |
| 2.5.3 扫描电子显微技术(SEM) | 第44-45页 |
| 2.5.4 透射电子显微技术(TEM) | 第45-46页 |
| 2.5.5 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第46页 |
| 2.5.6 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第46-47页 |
| 2.5.7 比表面积测试法(BET) | 第47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第三章 直接沉淀法制备非晶态氧化铝 | 第50-61页 |
| 3.1 实验准备 | 第51页 |
| 3.2 实验过程 | 第51-52页 |
| 3.2.1 实验制备过程 | 第51-52页 |
| 3.2.2 实验反应机理 | 第52页 |
| 3.3 XRD表征 | 第52-55页 |
| 3.4 TG-DTA表征 | 第55-56页 |
| 3.5 FTIR表征 | 第56-57页 |
| 3.6 TEM表征 | 第57-58页 |
| 3.7 小结 | 第58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 第四章 CO(NH_2)_2 为沉淀剂制备非晶态氧化铝 | 第61-72页 |
| 4.1 不同无机铝盐制备的氧化铝前驱体形貌及结构 | 第62-65页 |
| 4.2 以CO(NH_2)_2 做沉淀剂制备非晶态氧化铝 | 第65-66页 |
| 4.2.1 实验准备 | 第65页 |
| 4.2.2 实验制备过程及反应机理 | 第65-66页 |
| 4.3 XRD表征 | 第66-68页 |
| 4.4 FTIR表征 | 第68-69页 |
| 4.5 SEM表征 | 第69-70页 |
| 4.6 小结 | 第70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 分散及尺寸可控a-Al_2O_3纳米颗粒的制备与表征 | 第72-107页 |
| 5.1 实验准备 | 第72-73页 |
| 5.2 实验制备过程及反应机理 | 第73-74页 |
| 5.2.1 实验制备过程 | 第73-74页 |
| 5.2.2 实验反应机理 | 第74页 |
| 5.3 XRD表征 | 第74-79页 |
| 5.4 TG-DTA表征 | 第79-81页 |
| 5.5 FTIR表征 | 第81-86页 |
| 5.6 XPS表征 | 第86-87页 |
| 5.7 TEM表征 | 第87-103页 |
| 5.7.1 甲酰胺加入 100 mL时前驱体TEM表征 | 第87-91页 |
| 5.7.2 非晶态氧化铝的TEM表征 | 第91-103页 |
| 5.8 BET表征 | 第103-104页 |
| 5.9 小结 | 第104页 |
| 参考文献 | 第104-107页 |
| 第六章 结论与展望 | 第107-109页 |
| 6.1 结论 | 第107-108页 |
| 6.2 创新点 | 第108页 |
| 6.3 展望 | 第108-109页 |
| 在学期间的研究成果 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110-111页 |
