原子层沉积制备Al掺杂ZnO薄膜的结构与性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·研究背景 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的结构和基本性质 | 第13-17页 |
| ·晶体结构 | 第13-14页 |
| ·缺陷与掺杂 | 第14-15页 |
| ·ZnO 材料研究现状 | 第15-17页 |
| ·透明导电氧化物（TCO）薄膜的特性 | 第17-18页 |
| ·TCO 薄膜的光学特性 | 第17页 |
| ·TCO 薄膜的电学特性 | 第17-18页 |
| ·常见的TCO 薄膜 | 第18页 |
| ·ZnO 基透明导电薄膜的应用 | 第18-21页 |
| ·薄膜太阳能电池 | 第19-20页 |
| ·平板显示器 | 第20页 |
| ·有机发光二极管 | 第20-21页 |
| ·ZnO 基薄膜制备方法 | 第21-25页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第22-23页 |
| ·化学气相沉积 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| ·原子层沉积法 | 第24-25页 |
| ·本课题的研究意义和研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 ALD 技术制备AZO 薄膜与表征方法 | 第27-35页 |
| ·原子层沉积（ALD）技术 | 第27-29页 |
| ·ALD 原理 | 第27-28页 |
| ·ALD 前驱体 | 第28-29页 |
| ·ALD 特点 | 第29页 |
| ·原子层沉积系统 | 第29-31页 |
| ·AZO 薄膜制备工艺 | 第31-32页 |
| ·衬底的清洗 | 第31页 |
| ·原子层沉积镀膜 | 第31-32页 |
| ·AZO 薄膜性质表征 | 第32-34页 |
| ·电感耦合等离子体质谱（ICP-MS） | 第32页 |
| ·膜厚测试 | 第32页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第32-33页 |
| ·场发射扫描电镜（FE-SEM）测试 | 第33页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第33页 |
| ·紫外可见光谱测试分析（UV-VIS） | 第33页 |
| ·霍尔（Hall）测试 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 掺杂顺序对薄膜结构及光电特性的影响 | 第35-47页 |
| ·试验方法 | 第35-36页 |
| ·薄膜的表征及分析 | 第36-41页 |
| ·ICP-MS 成分分析 | 第36页 |
| ·XRD 分析 | 第36-38页 |
| ·SEM 分析 | 第38-39页 |
| ·AFM 分析 | 第39-41页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第41-46页 |
| ·电学性能 | 第41-44页 |
| ·光学性能 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 Al 掺杂浓度对薄膜结构及光电特性的影响 | 第47-55页 |
| ·试验方法 | 第47-48页 |
| ·薄膜的表征及分析 | 第48-50页 |
| ·XRD 分析 | 第48-49页 |
| ·SEM 分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第50-53页 |
| ·电学性能 | 第50-51页 |
| ·光学性能 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 沉积温度对薄膜结构及光电特性的影响 | 第55-62页 |
| ·试验方法 | 第55页 |
| ·薄膜的表征及分析 | 第55-58页 |
| ·XRD 分析 | 第55-57页 |
| ·SEM 分析 | 第57-58页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第58-60页 |
| ·电学性能 | 第58-59页 |
| ·光学性能 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及申请的专利 | 第71页 |
