二氧化钛的黑化及其光催化性能研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 光催化和光催化剂 | 第9页 |
| 1.2 半导体光催化的应用 | 第9-10页 |
| 1.2.1 光催化空气净化 | 第9-10页 |
| 1.2.2 光催化水体净化 | 第10页 |
| 1.2.3 光催化剂的自清洁作用 | 第10页 |
| 1.3 半导体催化剂的发展 | 第10-13页 |
| 1.3.1 TiO_2催化剂 | 第11页 |
| 1.3.2 TiO_2的灰化研究 | 第11-13页 |
| 1.4 本论文研究的内容及意义 | 第13-15页 |
| 第二章 Al还原制备可见光响应催化剂 | 第15-39页 |
| 2.1 前言 | 第15页 |
| 2.2 实验部分 | 第15-18页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第15-16页 |
| 2.2.2 催化剂的制备 | 第16-17页 |
| 2.2.3 催化剂的表征 | 第17页 |
| 2.2.4 可见光催化实验 | 第17页 |
| 2.2.5 暗吸附实验 | 第17-18页 |
| 2.2.6 制药废水COD测定实验 | 第18页 |
| 2.3 结果分析与讨论 | 第18-36页 |
| 2.3.1 XRD分析 | 第18-19页 |
| 2.3.2 TEM分析 | 第19-21页 |
| 2.3.3 SEM分析 | 第21-22页 |
| 2.3.4 BET-BJH分析 | 第22-23页 |
| 2.3.5 Uv-vis DRS分析 | 第23-26页 |
| 2.3.6 SPS分析 | 第26-29页 |
| 2.3.7 吸附性能测试 | 第29-31页 |
| 2.3.8 可见光催化性能测试 | 第31-35页 |
| 2.3.9 理论计算 | 第35-36页 |
| 2.3.10 COD测试 | 第36页 |
| 2.4 机理研究 | 第36-37页 |
| 2.5 本章结论 | 第37-39页 |
| 第三章 Fe还原制备灰色P25及其性能研究 | 第39-50页 |
| 3.1 前言 | 第39页 |
| 3.2 主要试剂和仪器 | 第39页 |
| 3.3 超声Fe处理催化剂的研究 | 第39-40页 |
| 3.3.1 超声Fe处理催化剂的制备 | 第39-40页 |
| 3.3.2 催化剂的表征 | 第40页 |
| 3.3.3 光催化实验 | 第40页 |
| 3.4 结果分析与讨论 | 第40-47页 |
| 3.4.1 XRD分析 | 第40-41页 |
| 3.4.2 SEM与TEM分析 | 第41-42页 |
| 3.4.3 UV-vis分析 | 第42-44页 |
| 3.4.4 SPS分析 | 第44-45页 |
| 3.4.5 光催化性能测试 | 第45-47页 |
| 3.4.6 COD测试 | 第47页 |
| 3.5 机理研究 | 第47-49页 |
| 3.5.1 超声原理 | 第47-48页 |
| 3.5.2 光催化性能机理研究 | 第48-49页 |
| 3.6 本章结论 | 第49-50页 |
| 第四章 真空处理催化剂的研究 | 第50-60页 |
| 4.1 催化剂的制备 | 第50页 |
| 4.2 催化剂的表征 | 第50页 |
| 4.3 催化剂的可见光性能测试 | 第50页 |
| 4.4 结果分析与讨论 | 第50-58页 |
| 4.4.1 XRD分析 | 第50-51页 |
| 4.4.2 TEM分析 | 第51-52页 |
| 4.4.3 SEM分析 | 第52-53页 |
| 4.4.4 UV-vis分析 | 第53-54页 |
| 4.4.5 SPS分析 | 第54-55页 |
| 4.4.6 可见光催化性能测试 | 第55-56页 |
| 4.4.7 COD测试 | 第56页 |
| 4.4.8 理论模拟 | 第56-58页 |
| 4.5 机理研究 | 第58-59页 |
| 4.6 本章结论 | 第59-60页 |
| 第五章 结论和展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历、在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第68页 |
