摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-29页 |
1.1 相干光刻技术 | 第11-16页 |
1.1.1 引言 | 第11-12页 |
1.1.2 纳米图案的产生技术 | 第12-13页 |
1.1.3 相干光刻的基本原理 | 第13-16页 |
1.2 表面增强拉曼散射(SERS) | 第16-22页 |
1.2.1 引言 | 第16-17页 |
1.2.2 拉曼散射 | 第17-18页 |
1.2.3 表面增强拉曼散射 | 第18-19页 |
1.2.4 表面增强拉曼散射的基本原理 | 第19-21页 |
1.2.5 SERS衬底的制备方法 | 第21-22页 |
1.3 纳米压印技术 | 第22-25页 |
1.3.1 热压纳米压印技术 | 第22-23页 |
1.3.2 紫外固化压印技术 | 第23-24页 |
1.3.3 复合纳米压印技术 | 第24-25页 |
1.4 图案制备相关工艺 | 第25-27页 |
1.4.1 光刻工艺 | 第25页 |
1.4.2 刻蚀工艺 | 第25-26页 |
1.4.3 镀膜工艺 | 第26-27页 |
1.5 本文研究内容 | 第27-29页 |
第二章 干涉光刻制备光刻图案 | 第29-45页 |
2.1 实验装置与材料 | 第29-31页 |
2.2 实验流程 | 第31-32页 |
2.3 实验结果与讨论 | 第32-44页 |
2.3.1 实验流程的改进 | 第32-34页 |
2.3.2 实验参数的控制 | 第34-38页 |
2.3.3 小周期光栅的制备 | 第38-39页 |
2.3.4 两种干涉装置曝光结果的讨论 | 第39-40页 |
2.3.5 点阵模板的制备 | 第40-44页 |
2.4 小结 | 第44-45页 |
第三章 复合纳米压印制备SERS衬底 | 第45-61页 |
3.1 实验装置与材料 | 第45页 |
3.2 实验流程 | 第45-47页 |
3.2.1 复合模板的制备 | 第45-46页 |
3.2.2 金属纳米点阵的制备 | 第46-47页 |
3.3 实验结果与讨论 | 第47-51页 |
3.3.1 实验流程选择的讨论 | 第47-49页 |
3.3.2 金属纳米粒子的制备 | 第49-50页 |
3.3.3 金属粒子粒径分布计算 | 第50-51页 |
3.4 SERS性能的检测 | 第51-53页 |
3.5 SERS性能的优化 | 第53-56页 |
3.5.1 不同形状金属阵列SERS性能比较 | 第53-54页 |
3.5.2 不同直径金属阵列SERS性能比较 | 第54-56页 |
3.6 理论结果模拟与计算 | 第56-60页 |
3.6.1 70nm直径金属阵列的T&A&R曲线与场分布模拟 | 第56-57页 |
3.6.2 不同直径金属粒子的反射光谱的模拟 | 第57-59页 |
3.6.3 不同高度金属粒子的反射光谱的模拟 | 第59-60页 |
3.7 小结 | 第60-61页 |
第四章 总结与展望 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-71页 |
攻读硕士学位期间论文发表 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-74页 |