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纳米结构阵列的制备与应用

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-29页
    1.1 相干光刻技术第11-16页
        1.1.1 引言第11-12页
        1.1.2 纳米图案的产生技术第12-13页
        1.1.3 相干光刻的基本原理第13-16页
    1.2 表面增强拉曼散射(SERS)第16-22页
        1.2.1 引言第16-17页
        1.2.2 拉曼散射第17-18页
        1.2.3 表面增强拉曼散射第18-19页
        1.2.4 表面增强拉曼散射的基本原理第19-21页
        1.2.5 SERS衬底的制备方法第21-22页
    1.3 纳米压印技术第22-25页
        1.3.1 热压纳米压印技术第22-23页
        1.3.2 紫外固化压印技术第23-24页
        1.3.3 复合纳米压印技术第24-25页
    1.4 图案制备相关工艺第25-27页
        1.4.1 光刻工艺第25页
        1.4.2 刻蚀工艺第25-26页
        1.4.3 镀膜工艺第26-27页
    1.5 本文研究内容第27-29页
第二章 干涉光刻制备光刻图案第29-45页
    2.1 实验装置与材料第29-31页
    2.2 实验流程第31-32页
    2.3 实验结果与讨论第32-44页
        2.3.1 实验流程的改进第32-34页
        2.3.2 实验参数的控制第34-38页
        2.3.3 小周期光栅的制备第38-39页
        2.3.4 两种干涉装置曝光结果的讨论第39-40页
        2.3.5 点阵模板的制备第40-44页
    2.4 小结第44-45页
第三章 复合纳米压印制备SERS衬底第45-61页
    3.1 实验装置与材料第45页
    3.2 实验流程第45-47页
        3.2.1 复合模板的制备第45-46页
        3.2.2 金属纳米点阵的制备第46-47页
    3.3 实验结果与讨论第47-51页
        3.3.1 实验流程选择的讨论第47-49页
        3.3.2 金属纳米粒子的制备第49-50页
        3.3.3 金属粒子粒径分布计算第50-51页
    3.4 SERS性能的检测第51-53页
    3.5 SERS性能的优化第53-56页
        3.5.1 不同形状金属阵列SERS性能比较第53-54页
        3.5.2 不同直径金属阵列SERS性能比较第54-56页
    3.6 理论结果模拟与计算第56-60页
        3.6.1 70nm直径金属阵列的T&A&R曲线与场分布模拟第56-57页
        3.6.2 不同直径金属粒子的反射光谱的模拟第57-59页
        3.6.3 不同高度金属粒子的反射光谱的模拟第59-60页
    3.7 小结第60-61页
第四章 总结与展望第61-63页
参考文献第63-71页
攻读硕士学位期间论文发表第71-73页
致谢第73-74页

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