电子束作用下氧化锆热障涂层传热数值模拟与实验
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-10页 |
| 1.1.1 研究目的与意义 | 第8页 |
| 1.1.2 国内外当前研究水平与现状 | 第8-10页 |
| 1.2 研究内容 | 第10页 |
| 1.3 研究方法与技术路线 | 第10-12页 |
| 1.3.1 COMSOL物理场数值模拟 | 第10页 |
| 1.3.2 涂层表面电子束重熔 | 第10-12页 |
| 第2章 电子束作用下氧化锆热障涂层传热数值模拟 | 第12-40页 |
| 2.1 物理模型与基本参数 | 第12-15页 |
| 2.1.1 物理模型的建立 | 第12-13页 |
| 2.1.2 几何模型尺寸 | 第13-14页 |
| 2.1.3 涂层材料主要物性参数 | 第14-15页 |
| 2.2 电子束作用实际涂层传热模拟(等效法) | 第15-27页 |
| 2.2.1 功率密度对涂层温度场和重熔深度的影响 | 第15-21页 |
| 2.2.2 作用时间对涂层温度场和重熔深度的影响 | 第21-27页 |
| 2.3 电子束作用实际涂层传热模拟(耦合法) | 第27-38页 |
| 2.3.1 功率密度对涂层温度场和重熔深度的影响 | 第27-33页 |
| 2.3.2 作用时间对涂层温度场和重熔深度的影响 | 第33-38页 |
| 2.4 结论 | 第38-40页 |
| 第3章 实验装置简介 | 第40-45页 |
| 3.1 大气压等离子体喷涂设备 | 第40-41页 |
| 3.2 强流脉冲电子束装置 | 第41-43页 |
| 3.3 扫描电子束实验装置 | 第43-45页 |
| 第4章 氧化锆热障涂层的制备及电子束重熔 | 第45-61页 |
| 4.1 涂层的制备 | 第45-47页 |
| 4.2 涂层的表征 | 第47-50页 |
| 4.2.1 涂层的XRD测试分析 | 第47-48页 |
| 4.2.2 涂层的微观结构测试分析 | 第48-50页 |
| 4.2.3 涂层的孔隙率测试分析 | 第50页 |
| 4.3 重熔后涂层的表征 | 第50-58页 |
| 4.3.1 重熔后涂层的XRD测试分析 | 第51-52页 |
| 4.3.2 重熔后涂层的微观结构测试分析 | 第52-54页 |
| 4.3.3 重熔后涂层的孔隙率测试分析 | 第54-55页 |
| 4.3.4 重熔后涂层的显微硬度测试分析 | 第55-57页 |
| 4.3.5 重熔后涂层的耐磨性测试分析 | 第57-58页 |
| 4.4 结论 | 第58-61页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第61-64页 |
| 5.1 全文总结 | 第61-63页 |
| 5.2 创新之处 | 第63页 |
| 5.3 工作展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
