摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 前言 | 第10-17页 |
1.1 工业废气中的含碳化合物 | 第10-12页 |
1.1.1 工业废气中CO的产生及其危害 | 第10-11页 |
1.1.2 工业废气中挥发性有机物的产生及其危害 | 第11-12页 |
1.2 工业废气中含碳化合物的处理技术 | 第12-15页 |
1.2.1 催化氧化法 | 第12-14页 |
1.2.2 低温等离子体技术 | 第14-15页 |
1.3 介质阻挡放电协同催化剂技术 | 第15-16页 |
1.4 本研究的目的与内容 | 第16-17页 |
2 实验部分 | 第17-23页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第17-18页 |
2.2 技术路线 | 第18-19页 |
2.3 催化剂制备 | 第19页 |
2.4 催化剂的表征 | 第19-20页 |
2.4.1 低温N_2物理吸脱附 | 第19-20页 |
2.4.2 X射线衍射(XRD) | 第20页 |
2.4.3 X衍射光电子能谱(XPS) | 第20页 |
2.4.4 傅里叶红外(FT-IR) | 第20页 |
2.4.5 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第20页 |
2.4.6 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第20页 |
2.4.7 O_2程序升温脱附(O_2-TPD) | 第20页 |
2.5 分析方法的建立 | 第20-21页 |
2.5.1 催化剂活性与选择性 | 第20-21页 |
2.5.2 含碳化合物的分析 | 第21页 |
2.6 实验装置 | 第21-23页 |
2.6.1 低温等离子体反应器 | 第21-22页 |
2.6.2 催化剂活性评价系统 | 第22-23页 |
3 DBD反应器放电参量的研究 | 第23-30页 |
3.1 放电参量的测量 | 第23-24页 |
3.2 结果与讨论 | 第24-29页 |
3.2.1 电源参量对放电功率的影响 | 第24-25页 |
3.2.2 电源参量对介质层等效电容(C_d)的影响 | 第25-27页 |
3.2.3 电源参量对间隙等效电容(C_g)的影响 | 第27页 |
3.2.4 介质阻挡放电脱除甲苯效果评价 | 第27-29页 |
3.3 本章小结 | 第29-30页 |
4 介质阻挡放电协同CuCeZr/TiO_2催化剂脱除CO | 第30-37页 |
4.1 实验部分 | 第30页 |
4.1.1 催化剂的制备 | 第30页 |
4.1.2 催化剂的表征 | 第30页 |
4.1.3 催化剂对CO脱除效果的评价 | 第30页 |
4.2 结果与讨论 | 第30-36页 |
4.2.1 XPS分析 | 第30-31页 |
4.2.2 H_2-TPD分析 | 第31-32页 |
4.2.3 O_2-TPD分析 | 第32-33页 |
4.2.4 程序升温脱除CO过程的研究 | 第33-34页 |
4.2.5 介质阻挡放电协同催化剂脱除CO | 第34-36页 |
4.2.6 反应机理分析 | 第36页 |
4.3 本章小结 | 第36-37页 |
5 介质阻挡放电协同CuCeZr/X催化剂脱除甲苯 | 第37-47页 |
5.1 实验部分 | 第37页 |
5.1.1 催化剂的制备 | 第37页 |
5.1.2 催化剂的表征 | 第37页 |
5.1.3 甲苯脱除效果的评价 | 第37页 |
5.2 结果与讨论 | 第37-46页 |
5.2.1 孔结构分析 | 第37-38页 |
5.2.2 XRD分析 | 第38-39页 |
5.2.3 XPS分析 | 第39-41页 |
5.2.4 H_2-TPD分析 | 第41-42页 |
5.2.5 NH_3-TPD分析 | 第42页 |
5.2.6 介质阻挡放电协同不同载体催化剂脱除甲苯 | 第42-44页 |
5.2.7 能量效率分析 | 第44-45页 |
5.2.8 FT-IR分析 | 第45-46页 |
5.3 本章小结 | 第46-47页 |
6 介质阻挡放电协同XCeZr/TiO_2催化剂脱除甲苯 | 第47-52页 |
6.1 实验部分 | 第47页 |
6.1.1 催化剂的制备 | 第47页 |
6.1.2 催化剂的表征 | 第47页 |
6.1.3 甲苯脱除效果的评价 | 第47页 |
6.2 结果与讨论 | 第47-51页 |
6.2.1 XRD分析 | 第47-48页 |
6.2.2 H_2-TPR分析 | 第48-49页 |
6.2.3 O_2-TPD分析 | 第49页 |
6.2.4 介质阻挡放电协同不同主金属催化剂脱除甲苯 | 第49-51页 |
6.3 本章小结 | 第51-52页 |
7 结论 | 第52-54页 |
8 创新点与展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-64页 |
论文及专利发表 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |