首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工程材料学论文--特种结构材料论文

Ag离子注入自支撑金刚石膜微结构及场发射性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-12页
第一章 绪论第12-26页
 引言第12-13页
   ·场发射第13-16页
     ·场发射理论第13-14页
     ·场发射性能参数第14-15页
     ·场发射材料第15-16页
   ·.金刚石材料第16-21页
     ·金刚石的晶体结构第16-17页
     ·金刚石的性质第17-19页
     ·金刚石膜制备方法第19-21页
   ·金刚石膜的掺杂研究第21-23页
     ·化学气相沉积(CVD)掺杂第21-22页
     ·离子注入掺杂第22-23页
   ·问题的提出及本文的主要研究内容第23-26页
第二章 实验方法与原理第26-32页
   ·自支撑金刚石样品的制备第26-27页
     ·衬底预处理第26页
     ·金刚石膜的制备第26-27页
     ·酸洗和抛光处理第27页
   ·Ag离子注入及退火方案第27-28页
   ·测试方法及原理第28-32页
     ·场发射扫描电子显微镜(FESEM)第28页
     ·原子力显微镜(AFM)第28页
     ·拉曼光谱(Raman)第28-29页
     ·掠入射X射线衍射(GXRD)第29页
     ·X射线光电子能谱(XPS)第29页
     ·Hall效应(Hall)第29-30页
     ·场发射性能测试(EFE)第30-32页
第三章 Ag离子注入及退火对FSDP膜微结构和场发射性能的影响第32-44页
   ·引言第32页
   ·结构、成分及形貌表征第32-39页
     ·SEM图谱分析第32-35页
     ·AFM图谱分析第35-37页
     ·GXRD图谱分析第37-38页
     ·Raman光谱分析第38-39页
   ·电学性能表征第39-42页
     ·Hall效应分析第39-40页
     ·场发射性能分析第40-42页
   ·本章小结第42-44页
第四章 不同气氛下退火对Ag离子注入FSD膜微结构和场发射性能的影响第44-60页
   ·引言第44页
   ·场发射性能分析第44-46页
   ·结构、成分及形貌表征第46-59页
     ·SEM图谱分析第46-50页
     ·AFM图谱分析第50-53页
     ·GXRD图谱分析第53-55页
     ·Raman光谱分析第55-56页
     ·XPS能谱分析第56-59页
   ·本章小结第59-60页
第五章 退火温度和气氛对Ag离子注入FSD膜相成分的影响第60-66页
   ·引言第60页
   ·Raman光谱分析第60-65页
     ·Ar气氛中退火温度对Ag离子注入FSD膜中相成分的影响第60-61页
     ·N_2气氛中退火温度对Ag离子注入FSD膜中相成分的影响第61-62页
     ·H_2气氛中退火温度对Ag离子注入FSD膜中相成分的影响第62-64页
     ·O_2气氛中退火温度对Ag离子注入FSD膜中相成分的影响第64-65页
   ·本章小结第65-66页
第六章 结论第66-68页
参考文献第68-78页
硕士期间发表的论文第78-80页
致谢第80页

论文共80页,点击 下载论文
上一篇:掺杂In6Se7基半导体结构及其热电性能研究
下一篇:阳极氧化法制备4H-SiC纳米阵列与结构调控及其光电特性