| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·微弧氧化的基本原理 | 第9-10页 |
| ·火花放电机理 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化膜层生长过程 | 第10页 |
| ·微弧氧化的影响因素 | 第10-12页 |
| ·电解液的影响 | 第10-11页 |
| ·微弧氧化电源类型及工作模式的影响 | 第11页 |
| ·电参数的影响 | 第11-12页 |
| ·镁合金基体材料的影响 | 第12页 |
| ·镁合金微弧氧化的优化 | 第12-13页 |
| ·电解液的优化 | 第12页 |
| ·封孔处理工艺的优化 | 第12-13页 |
| ·本论文的研究目的和主要内容 | 第13-14页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第14-17页 |
| ·实验材料及药品 | 第14页 |
| ·微弧氧化装置及膜层制备过程 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化装置 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化样品的制备 | 第15页 |
| ·膜层形貌、成分和性能分析 | 第15-17页 |
| ·膜层形貌和成分观察 | 第15-16页 |
| ·膜层的电化学分析 | 第16-17页 |
| 第3章 镁合金新型氟钛酸盐体系微弧氧化电参数的优化 | 第17-31页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·实验方案及方法 | 第17-18页 |
| ·实验结果与分析 | 第18-30页 |
| ·电流密度对氧化膜的影响 | 第18-20页 |
| ·氧化电压对氧化膜的影响 | 第20-23页 |
| ·恒压时间对膜层的影响 | 第23-25页 |
| ·频率对膜层的影响 | 第25-27页 |
| ·占空比对膜层的影响 | 第27-28页 |
| ·新型电解液体系与传统电解液体系微弧氧化膜比较 | 第28-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 新型氟钛酸盐电解液体系微弧氧化成膜机理研究 | 第31-50页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验方案及方法 | 第31-32页 |
| ·实验结果与分析 | 第32-48页 |
| ·新型与传统型微弧氧化膜层对比 | 第32页 |
| ·新型微弧氧化初期形成的钝化膜的研究 | 第32-35页 |
| ·成膜及封孔物质沉积过程研究 | 第35-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 总结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 在学研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |