| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| 第二章 ITO薄膜概述 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·ITO薄膜的晶体结构及光电机理 | 第11-13页 |
| ·晶体结构 | 第11-12页 |
| ·导电机理 | 第12页 |
| ·透光机理 | 第12-13页 |
| ·ITO薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·ITO薄膜的制备工艺 | 第14-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·喷雾热解法 | 第15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15-16页 |
| ·真空蒸发法 | 第16页 |
| ·离子束镀膜法 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·直流磁控溅射法 | 第17页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·脉冲磁控溅射法 | 第18页 |
| ·ITO薄膜的基片 | 第18-20页 |
| ·课题研究内容及创新之处 | 第20-21页 |
| 第三章 实验部分 | 第21-26页 |
| ·实验仪器 | 第21页 |
| ·脉冲磁控溅射系统 | 第21-23页 |
| ·ITO薄膜基片的清洗 | 第23-24页 |
| ·ITO薄膜的制备 | 第24页 |
| ·ITO薄膜性能分析测试方法 | 第24-26页 |
| ·X射线衍射仪(XRD)分析 | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第25页 |
| ·数字式四探针分析分析 | 第25页 |
| ·UV-Vis分光光度计分析 | 第25-26页 |
| 第四章 实验参数对PET基底上ITO薄膜性能的影响 | 第26-36页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·溅射功率对ITO薄膜性能的影响 | 第26-27页 |
| ·溅射气压对ITO薄膜性能的影响 | 第27-29页 |
| ·光性能分析 | 第28页 |
| ·电性能分析 | 第28-29页 |
| ·溅射时间对ITO薄膜性能的影响 | 第29-32页 |
| ·薄膜物相结构分析 | 第29-31页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第31页 |
| ·薄膜光性能分析 | 第31-32页 |
| ·薄膜电性能分析 | 第32页 |
| ·衬底温度对ITO薄膜性能的影响 | 第32-36页 |
| ·薄膜物相结构分析 | 第32-34页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第34页 |
| ·薄膜光性能分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜电性能分析 | 第35-36页 |
| 第五章 不同基底上ITO薄膜性能的对比研究 | 第36-43页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·薄膜晶体结构和形貌对比分析 | 第36-39页 |
| ·光学性能分析 | 第39-40页 |
| ·电学性能分析 | 第40-43页 |
| 第六章 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 附录 作者攻读硕士期间发表的论文及成果 | 第49页 |